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C01B　非金属元素；それの合成物； {メタロイドまたはサブクラスにおおわれなくてそれの合成物C01C}

C01B 3/00 水素；水素を含んでいるガス状の混合物；それを含んでいる混合物からの水素の分離(物理的な手段によるガスの分離B01D)；水素の浄化(水性ガスの生産または固体炭素質の材料からの合成用原料ガスC10J；一酸化炭素を含んでいる可燃性の技術的なガスの化学組成を浄化するかまたは修正することC10K)

C01B 3/0005 ・{適切な媒体（すなわち物理的であるか化学吸収現象にまたは可逆化学反応に基づく）による水素の可逆性取り込み例えば水素記憶目的のための(水素の浄化C01B 3/508)；水素の可逆性残留ガスの除去；電極による水素の可逆性取り込み}

C01B 3/001 ・・{媒体をuptakingすることによって、特徴付けられる；それの処理}

C01B 3/0015 ・・・{有機化合物；それの溶液}

C01B 3/0021 ・・・{カーボン、例えば活性炭、カーボン・ナノチューブ、フラーレン；それの処理}

C01B 3/0026 ・・・{1つの一つの金属または希土類元素の；それの処理}

C01B 3/0031 ・・・{金属間化合物；金属合金；それの処理}

C01B 3/0036 ・・・・{鉄およびチタンを含むだけであること；それの処理}

C01B 3/0042 ・・・・{マグネシウムおよびニッケルを含むだけであること；それの処理}

C01B 3/0047 ・・・・{上記は、希土類元素を含む；それの処理}

C01B 3/0052 ・・・・・{チタンをまた、含むこと}

C01B 3/0057 ・・・・・{ニッケルをまた、含むこと}

C01B 3/0063 ・・・・・{希土類元素および他のひとつ金属だけを含むだけであること}

C01B 3/0068 ・・・・・・{ニッケルである他の金属}

C01B 3/0073 ・・・{泥漿、サスペンション}

C01B 3/0078 ・・・{複合固い記憶媒体、すなわち異なる固体成分の整合的であるか遊離した混合物、化学的にまたは構造的に異質な固体の多数、化学的に修正された表層領域を有するおおわれている固体または固体}

C01B 3/0084 ・・・{それらの形状によって、特徴付けられる固体の蓄冷材、例えばペレット、焼結形づくられた体、シート、穴の多いコンパクト、スポンジ状の金属、中身のない分子、空腔を有する固体、層をなした固体}

C01B 3/0089 ・{オルト・パラグラフ転換}

C01B 3/0094 ・{原子状水素}

C01B 3/02 ・水素のまたはガス状の混合物の製造含む{かなりの}水素

C01B 3/025 ・・{アンモニア合成のためのガス混合物の準備または浄化}

C01B 3/04 ・・無機化合物の分解によって、例えばアンモニア{(C01B 3/0005 優位をとる)}

C01B 3/042 ・・・{水の分解}

C01B 3/045 ・・・・{ガスの位相の}

C01B 3/047 ・・・{アンモニアの分解}

C01B 3/06 ・・電気-positivelyに縛られた水素を含んでいる無機化合物の反応によって、例えば水、酸、ベース、アンモニア、無機還元剤を有する(水の電気分解によってC25B 1/04)

C01B 3/061 ・・・{水を有する金属酸化物の反応によって}

C01B 3/063 ・・・・{周期的方法}

C01B 3/065 ・・・{水素化物から}

C01B 3/066 ・・・{リンを有する水の反応によって}

C01B 3/068 ・・・{反応のcyclusの結果として、水から発生している水素、グループにおおわれないC01B 3/063 or C01B 3/105}

C01B 3/08 ・・・金属を有する

C01B 3/10 ・・・金属を有する水蒸気の反応によって

C01B 3/105 ・・・・{周期的方法}

C01B 3/12 ・・・一酸化炭素を有する水蒸気の反応によって

C01B 3/14 ・・・・熱および蒸気の取扱い

C01B 3/16 ・・・・触媒を使用すること

C01B 3/18 ・・・・可動固体分子を使用すること

C01B 3/20 ・・・一酸化炭素を有する金属水酸化物の反応によって

C01B 3/22 ・・ガス状であるか液体有機化合物の分解によって({C01B 3/0005 優位をとる}；液体炭素質の材料をコークスにすることC10B 55/00)

C01B 3/24 ・・・炭化水素の

C01B 3/26 ・・・・触媒を使用すること

C01B 3/28 ・・・・可動固体分子を使用すること

C01B 3/30 ・・・・・流動化された台テクニックを使用すること

C01B 3/32 ・・ガス化剤を有するガス状であるか液体有機化合物の反応によって、例えば水、二酸化炭素、空気

C01B 3/323 ・・・{ガス化剤を有する炭化水素以外のガス状であるか液体有機化合物の触媒反応}

C01B 3/326 ・・・・{触媒によって、特徴付けられる}

C01B 3/34 ・・・ガス化剤を有する炭化水素の反応によって

C01B 3/342 ・・・・{電気手段を用いて、、電磁であるか機械の振動、または分子放射線}

C01B 3/344 ・・・・{非触媒固体分子を使用すること}

C01B 3/346 ・・・・{過熱蒸気によって、発生する熱を使用すること}

C01B 3/348 ・・・・{液体を蓄積している熱との直接の接触によって、例えば溶融金属、融解した塩類}

C01B 3/36 ・・・・ガス化剤として酸素を含んでいる酸素または混合物を使用すること

C01B 3/363 ・・・・・{使用するバーナーによって、特徴付けられる}

C01B 3/366 ・・・・・{内燃機関エンジンの部分燃焼}

C01B 3/38 ・・・・触媒を使用すること

C01B 3/382 ・・・・・{多段階方法}

C01B 3/384 ・・・・・{連続的に学外で加熱されている触媒}

C01B 3/386 ・・・・・{触媒部分燃焼}

C01B 3/388 ・・・・・{過熱蒸気によって、発生している熱}

C01B 3/40 ・・・・・触媒によって、特徴付けられる

C01B 3/42 ・・・・・可動固体分子を使用すること

C01B 3/44 ・・・・・・流動化された台テクニックを使用すること

C01B 3/46 ・・・・不連続的に予熱された非可動固体材料を使用すること、例えば送風および実行

C01B 3/48 ・・・・一酸化炭素を有する水蒸気の反応が続く

C01B 3/50 ・水素の分離またはガス状の混合物からガスを含んでいる水素、例えば浄化(C01B 3/14 優位をとる)

C01B 3/501 ・・{拡散によって}

C01B 3/503 ・・・{膜によって、特徴付けられる}

C01B 3/505 ・・・・{パラジウムを含んでいる膜}

C01B 3/506 ・・{低温で}

C01B 3/508 ・・{適切な媒体による選択的で可逆性取り込みによって、すなわち物理的であるか化学吸収現象にまたは可逆化学反応に基づいている取り込み(適切な媒体それ自体C01B 3/0005)}

C01B 3/52 ・・液体によって、接触することによって；使い古した液体の再生{(C01B 3/508 優位をとる)}

C01B 3/54 ・・・上記は、触媒反応を含む

C01B 3/56 ・・固体によって、接触することによって；使い古した固体の再生{(C01B 3/508 優位をとる)}

C01B 3/58 ・・・上記は、触媒反応を含む

C01B 3/583 ・・・・{一酸化炭素の選択酸化である反応}

C01B 3/586 ・・・・{メタン化反応である反応}

C01B 4/00 水素同位元素、それの無機化合物は、同位体交換（例えばNH3 + D2）によって、準備をした ―>H2D+ HD (同位元素の分離B01D 59/00；水素同位元素の形式化合物に対する他の化学反応、クラスの水素合成物について関連したグループを参照するC01) C01B 5/00 水

C01B 5/02 ・重水、水素同位元素またはそれらの合成物（例えば4ND3 + 7O2）の化学反応による準備 ―>NO2 + 6D2O, 2D2 + O2 --->D2O

C01B 6/00 金属の水素化物{上記は、完全にまたは部分的にhydridedされた金属を含む、合金または金属間化合物(水素の可逆吸収のためにそれの一部の利用C01B 3/0005, C01B 3/508)；少なくとも一つの金属-水素結合を含んでいる合成物、例えば (GeH3)2S、SiH GeH}；Monoboraneまたはジボラン；それの追加複合体(ホウ素のより高い水素化物、ホウ素の置換された水素化物C01B 35/00)

C01B 6/003 ・{1つの金属および1だけを含んでいる水素化物またはいくつかの非金属}

C01B 6/006 ・・{1金属、そして、1だけ、または、いくつかのハロゲン}

C01B 6/02 ・遷移元素の水素化物；それの追加複合体

C01B 6/04 ・アルカリ金属の水素化物、アルカリ土類金属、ベリリウムまたはマグネシウム；それの追加複合体

C01B 6/06 ・アルミニウムの水素化物、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、紐、ヒ素、アンチモン、ビスマスまたはポロニウム；Monoborane；ジボラン；それの追加複合体

C01B 6/065 ・・{ヒ素またはアンチモンの水素化物}

C01B 6/10 ・・Monoborane；ジボラン；それの追加複合体

C01B 6/11 ・・・ホウ素からの準備またはホウ素および酸素を含んでいる無機化合物

C01B 6/13 ・・・monoboraneまたはジボランの追加複合体、例えばホスフィンを有する、アルシンまたはヒドラジン

C01B 6/15 ・・・・金属borohydrides；それの追加複合体

C01B 6/17 ・・・・・ホウ素からの準備またはホウ素および酸素を含んでいる無機化合物

C01B 6/19 ・・・・・ホウ素の他の化合物からの準備

C01B 6/21 ・・・・・・アルカリ金属、アルカリ土類金属、マグネシウムまたはベリリウム、のborohydridesの準備それの追加複合体、例えば解放H4.2N2H4,NaB2H7

C01B 6/23 ・・・・・・他の金属のborohydridesの準備、例えばアルミニウムborohydride、それの追加複合体、例えばLi[Al(BH4)3H]

C01B 6/24 ・少なくとも2つの金属を含んでいる水素化物；それの追加複合体(C01B 6/13 to C01B 6/23 優位をとる)

C01B 6/243 ・・{上記は、水素、アルミニウムおよびアルカリ金属だけを含む。例えばLi(AlH4)}

C01B 6/246 ・・{水素以外の非金属をまた、含むこと}

C01B 6/26 ・・最も高い原子価を有する金属からのまたはその酸素酸のその酸化物または塩類からの準備

C01B 6/34 ・浄化；安定化

C01B 7/00 ハロゲン；ハロゲン酸(酸素酸C01B 11/00)

C01B 7/01 ・塩素；塩化水素

C01B 7/012 ・・{素子からの塩化水素の準備}

C01B 7/015 ・・{塩素水和物；そこから塩素を得ること}

C01B 7/017 ・・{一緒に塩素に反応を起こさせることによる塩化水素の準備、水およびカーボンまたはカーボン一酸化物(触媒だけとして作用していないカーボン)}

C01B 7/03 ・・塩化物からの準備

C01B 7/035 ・・・{塩化物からの塩化水素の準備}

C01B 7/04 ・・・塩化水素からの塩素の準備

C01B 7/05 ・・・塩化アンモニウムからの準備

C01B 7/055 ・・・・{塩化アンモニウムからの塩化水素の準備}

C01B 7/07 ・・浄化； {分離(C01B 7/015 優位をとる)}

C01B 7/0706 ・・・{塩化水素の}

C01B 7/0712 ・・・・{蒸留によって}

C01B 7/0718 ・・・・{吸着によって}

C01B 7/0725 ・・・・・{活性炭によって}

C01B 7/0731 ・・・・{摘出によって}

C01B 7/0737 ・・・・・{抽出されている塩化水素}

C01B 7/0743 ・・・{ガス状であるか分解された塩素の}

C01B 7/075 ・・・液体塩素の

C01B 7/09 ・臭素；臭化水素

C01B 7/093 ・・{臭化水素}

C01B 7/096 ・・{臭素}

C01B 7/13 ・ヨウ素；ヨウ化水素

C01B 7/135 ・・{ヨウ化水素}

C01B 7/14 ・・ヨウ素

C01B 7/16 ・・・海草からの準備

C01B 7/19 ・フッ素；フッ化水素

C01B 7/191 ・・{フッ化水素}

C01B 7/192 ・・・{蛍石からの準備}

C01B 7/193 ・・・{四フッ化ケイ素からの準備、fluosilicicな酸またはフルオロケイ酸塩}

C01B 7/194 ・・・{アンモニウム・フッ化物からの準備}

C01B 7/195 ・・・{分離；浄化}

C01B 7/196 ・・・・{蒸留によって}

C01B 7/197 ・・・・{吸着によって}

C01B 7/198 ・・・・・{固体イオン交換体によって}

C01B 7/20 ・・フッ素

C01B 7/24 ・インター・ハロゲン合成物

C01B 9/00 準備をしているハロゲン化物の一般の方法(特定の個々のハロゲン化物、関連したグループを中で参照C01B to C01G ハロゲンと結合される素子によれば；無機化合物の電解生産C25B)

C01B 9/02 ・塩化物

C01B 9/04 ・臭化物

C01B 9/06 ・ヨウ化物

C01B 9/08 ・フッ化物

C01B 11/00 ハロゲンの酸化物または酸素酸；それの塩類

C01B 11/02 ・塩素の酸化物

C01B 11/021 ・・{塩素hemioxide(Cl2O)}

C01B 11/022 ・・{二酸化塩素(ClO2)}

C01B 11/023 ・・・{亜塩素酸塩または塩素酸塩からの準備}

C01B 11/024 ・・・・{亜塩素酸塩から}

C01B 11/025 ・・・・{塩化物イオンより別のいかなる反応還元剤のないも塩素酸塩から}

C01B 11/026 ・・・・{peroxidicな合成物がある場合には、塩素酸塩イオンから、例えば過酸化水素、オゾン、peroxysulfates}

C01B 11/027 ・・・・{二酸化窒素から選ばれる窒素合成物がある場合には、塩素酸塩イオンから、硝酸塩または亜硝酸イオン、nitrosyl塩化物、ヒドラジンまたはヒドラジン合成物}

C01B 11/028 ・・・{分離；浄化}

C01B 11/029 ・・{塩素三酸化物(ClO3)；塩素hexoxide(Cl2O6)；塩素heptoxide(Cl2O7)}

C01B 11/04 ・次亜塩素酸

C01B 11/06 ・・次亜塩素酸塩

C01B 11/062 ・・・{アルカリ金属の次亜塩素酸塩}

C01B 11/064 ・・・{アルカリ土類金属の次亜塩素酸塩}

C01B 11/066 ・・・{マグネシウム次亜塩素酸塩}

C01B 11/068 ・・・{酸化物以外の添加物による安定化、水酸化物、アルカリまたはアルカリ土類金属の炭酸塩；分子のコーティング；形づくること；粒状化}

C01B 11/08 ・亜塩素酸

C01B 11/10 ・・亜塩素酸塩

C01B 11/12 ・塩素酸

C01B 11/14 ・・塩素酸塩

C01B 11/145 ・・・{分離；結晶化；浄化、後処理；添加物による安定化}

C01B 11/16 ・過塩素酸

C01B 11/18 ・・過塩素酸塩

C01B 11/185 ・・・{アンモニウム過塩素酸塩}

C01B 11/20 ・臭素の酸素化合物

C01B 11/22 ・ヨウ素の酸素化合物

C01B 11/24 ・フッ素の酸素合成物

C01B 13/00 酸素；オゾン；酸化物または水酸化物一般に

C01B 13/02 ・酸素の準備({ガス状の混合物の強化、特定の空気の、吸着過程までのガス状の混合物からの酸素の酸素または分離のB01D 63/03}；流動化することによってF25J)

C01B 13/0203 ・・{無機化合物から}

C01B 13/0207 ・・・{水}

C01B 13/0211 ・・・{ペルオキソ基を含む合成物}

C01B 13/0214 ・・・・{過酸化水素}

C01B 13/0218 ・・・{塩素酸塩}

C01B 13/0222 ・・{有機化合物から}

C01B 13/0225 ・・・{ペルオキソ基を含む合成物}

C01B 13/0229 ・・{浄化または分離プロセス}

C01B 13/0233 ・・・{化学処理だけ}

C01B 13/0237 ・・・・{酸化によって}

C01B 13/024 ・・・・{減少によって}

C01B 13/0244 ・・・・{complexationによって}

C01B 13/0248 ・・・{物理的な処理だけ}

C01B 13/0251 ・・・・{膜を利用することによって}

C01B 13/0255 ・・・・・{膜のタイプによって、特徴付けられる}

C01B 13/0259 ・・・・{固体上の吸着によって}

C01B 13/0262 ・・・・・{吸着性のものによって、特徴付けられる}

C01B 13/0266 ・・・・・・{カーボンは、材料の基礎を形成した}

C01B 13/027 ・・・・・・{沸石}

C01B 13/0274 ・・・・・・{他の分子篩材料}

C01B 13/0277 ・・・・・{温度揺動吸着}

C01B 13/0281 ・・・・・{ゲッターの}

C01B 13/0285 ・・・・{液体の吸収によって}

C01B 13/0288 ・・・{合同の化学で物理的な処理}

C01B 13/0292 ・・{アルカリ金属亜硝酸塩を含んでいる融解した位相を使用している空気からの準備、任意に一緒に他の酸素受領者に賛成である}

C01B 13/0296 ・・{それの流体も外部暖房も有する相互作用なしで、固体から自立した方法純酸素において、リリースすることは満たす生成プログラム例えばそれらを含んでいるクロレートキャンドルまたは容器(負担それ自体C01B 13/02)}

C01B 13/08 ・・金属酸化物を用いた空気から、例えばバリウム酸化物、マンガン酸化物{(C01B 13/0292 優位をとる)}

C01B 13/083 ・・・{バリウム酸化物を有する}

C01B 13/086 ・・・{マンガン酸化物を有する}

C01B 13/10 ・オゾンの準備

C01B 13/11 ・・放電によって

C01B 13/115 ・・・{電気放出を生じている電気回路によって、特徴付けられる}

C01B 13/14 ・準備をしている酸化物または水酸化物のための一般に方法(特定の個々の酸化物または水酸化物、サブクラスの関連したグループを参照C01B to C01G or C25B、酸素または水酸基を含むグループと結合される素子によれば)

C01B 13/145 ・・{酸化物または水酸化物の後処理、例えば微粉になること、乾燥すること、酸性度を減少させること}

C01B 13/16 ・・浄化

C01B 13/18 ・・合成物の熱分解によって、例えば塩類または水酸化物の

C01B 13/185 ・・・{酸化物の準備をしている混合物}

C01B 13/20 ・・ガスの状態の素子の酸化によって；ガスの状態の合成物の酸化または加水分解によって

C01B 13/22 ・・・ハロゲン化物またはoxyhalidesの

C01B 13/24 ・・・・熱い燃焼ガスがある場合には、

C01B 13/26 ・・・・流動化された台がある場合には、

C01B 13/28 ・・・・プラズマまたは放電を使用すること

C01B 13/30 ・・・・除去および酸化物を含む中止の冷却

C01B 13/32 ・・液体または固いステートの素子または合成物の酸化または加水分解によって、｛または非水性溶液の、例えばゾル−ゲル法}

C01B 13/322 ・・・{固いステートの素子または合成物の}

C01B 13/324 ・・・・{強力な燃焼合成によって}

C01B 13/326 ・・・{液状態の素子または合成物の}

C01B 13/328 ・・・{エマルジョン類を利用している過程までに、例えば灯油プロセス}

C01B 13/34 ・・吹き付けられるか原子にされた溶液の酸化または加水分解によって

C01B 13/36 ・・中で沈降反応によって{水性である}溶液{(C01B 13/328 優位をとる)}

C01B 13/363 ・・・{酸化物の混合物または沈殿による水酸化物}

C01B 13/366 ・・・{熱水処理によって}

C01B 15/00 過酸化物；Peroxyhydrates；ペルオキソ酸またはそれの塩類；過酸化物；オゾン化物

C01B 15/005 ・{準備にまたは結晶化に後の固体合成物の安定化、添加物によって、またはコーティングによって}

C01B 15/01 ・過酸化水素

C01B 15/013 ・・分離；浄化；集中

C01B 15/0135 ・・・{固体イオン交換体または固体のキレート化剤による浄化}

C01B 15/017 ・・・無水過酸化水素；過酸化水素を含んでいる無水溶液またはガス状の混合物

C01B 15/022 ・・有機化合物からの準備

C01B 15/023 ・・・アルキル・アントラキノン過程までに

C01B 15/024 ・・・炭化水素から

C01B 15/026 ・・・アルコール類から

C01B 15/027 ・・水からの準備

C01B 15/0275 ・・・{水の反応による準備、一酸化炭素および酸素}

C01B 15/029 ・・水素および酸素からの準備

C01B 15/0295 ・・・{電気放出によって}

C01B 15/03 ・・無機ペルオキソ基を含む合成物からの準備、例えばperoxysulfateから

C01B 15/032 ・・・金属過酸化物から

C01B 15/037 ・・添加物による安定化

C01B 15/04 ・金属過酸化物またはそれのperoxyhydrates； {金属}過酸化物； {金属}オゾン化物； {それのPeroxyhydrates}

C01B 15/043 ・・アルカリ金属の、アルカリ土類金属またはマグネシウム{またはベリリウムまたはアルミニウム}

C01B 15/0435 ・・・{アルカリ金属の}

C01B 15/047 ・・重合金の

C01B 15/0475 ・・・{アクチニド系列の}

C01B 15/055 ・Peroxyhydrates(C01B 15/04 優位をとる)；ペルオキソ酸またはそれの塩類

C01B 15/06 ・・上記は、硫黄を含む

C01B 15/08 ・・・Peroxysulfates

C01B 15/085 ・・・・{固体合成物の安定化、準備にまたは結晶化に後である、添加物によって、またはコーティングによって}

C01B 15/10 ・・上記は、カーボンを含む

C01B 15/103 ・・・{上記は、金属としてアルカリ金属だけを含む}

C01B 15/106 ・・・{固体合成物の安定化、準備にまたは結晶化に後である、添加物によって、またはコーティングによって}

C01B 15/12 ・・上記は、ホウ素を含む

C01B 15/123 ・・・{固体合成物の安定化、準備にまたは結晶化に後である、添加物によって、またはコーティングによって}

C01B 15/126 ・・・{より水和しないか無水でない製品に対する固体水和する過ホウ酸塩の脱水}

C01B 15/14 ・・上記は、シリコンを含む

C01B 15/16 ・・上記は、リンを含む

C01B 17/00 硫黄；それの合成物

C01B 17/02 ・硫黄の準備；浄化

C01B 17/0205 ・・{液体からの硫黄の分離、例えば合併によって}

C01B 17/021 ・・{ガスからの硫黄の分離}

C01B 17/0216 ・・{凝結または液体硫黄の冷却}

C01B 17/0221 ・・{溶解すること}

C01B 17/0226 ・・{蒸発させるかまたは過熱すること}

C01B 17/0232 ・・{浄化、例えばガスを除去すること}

C01B 17/0237 ・・{分子に変わること、例えば粒状化によって、ミリング}

C01B 17/0243 ・・{硫黄の他の後処理}

C01B 17/0248 ・・・{微粒子の硫黄の}

C01B 17/0253 ・・{硫化物以外の非ガス状の硫黄合成物またはこの種の硫化物を含んでいる材料から}

C01B 17/0259 ・・・{硫酸塩の減少によって}

C01B 17/0264 ・・・・{硫酸カルシウムの}

C01B 17/027 ・・基本的な硫黄を含んでいる材料からの硫黄の回復、例えばluxmasses{または鉱石を含んでいる硫黄}；浄化{回収された硫黄の}

C01B 17/033 ・・・液体抽出用溶剤を使用すること

C01B 17/04 ・・ガス状の硫化物を含んでいるガス状の硫黄合成物から

C01B 17/0404 ・・・{硫化水素を含有するガスの乾燥触媒転換から成る過程までに、例えばクラウス・プロセス}

C01B 17/0408 ・・・・{ガスを含んでいる硫化水素の前処理}

C01B 17/0413 ・・・・{燃焼ステップによって、特徴付けられる}

C01B 17/0417 ・・・・・{燃焼原子炉}

C01B 17/0421 ・・・・・{多段式燃焼}

C01B 17/0426 ・・・・{触媒転換によって、特徴付けられる}

C01B 17/043 ・・・・・{触媒コンバータ}

C01B 17/0434 ・・・・・{触媒組成物}

C01B 17/0439 ・・・・・{硫黄の露点の下で作動している少なくとも一つの触媒層}

C01B 17/0443 ・・・・・{可動台の}

C01B 17/0447 ・・・・{得られた硫黄の分離}

C01B 17/0452 ・・・・{プロセス制御；クラウス・プロセスの最初のまたは冷却運転手順}

C01B 17/0456 ・・・・{クラウス・プロセス尾部ガスである硫化水素を含有するガス}

C01B 17/046 ・・・・{二酸化硫黄の中間の形成なしで}

C01B 17/0465 ・・・・・{触媒組成物}

C01B 17/0469 ・・・・・{硫黄の露点の下で作動している少なくとも一つの触媒層}

C01B 17/0473 ・・・{二酸化硫黄の反応または硫化水素以外の還元剤を有するガスを含んでいる無水硫酸によって}

C01B 17/0478 ・・・・{それらを含んでいる炭化水素または混合物を有する}

C01B 17/0482 ・・・・[N.カーボンまたは固体炭素質の材料を有する]

C01B 17/0486 ・・・・{混合物を含んでいる一酸化炭素または一酸化炭素を有する}

C01B 17/0491 ・・・・{水素または水素を含有する混合物を有する、例えば合成用原料ガス}

C01B 17/0495 ・・・{素子への硫化水素の分離によって}

C01B 17/05 ・・・湿式の過程までに

C01B 17/06 ・・この種の硫化物を含んでいる非ガス状の硫化物または材料から、例えば鉱石

C01B 17/10 ・・微細に分かれた硫黄、例えば高尚にされた硫黄、硫黄華

C01B 17/12 ・・不溶性硫黄(μ-硫黄)

C01B 17/125 ・・・{32S以外の硫黄同位元素}

C01B 17/16 ・硫化水素

C01B 17/161 ・・{基本的な硫黄からの準備}

C01B 17/162 ・・・{基本的な硫黄および水素から}

C01B 17/164 ・・{oxidicな硫黄合成物の減少による準備}

C01B 17/165 ・・{硫化物からの準備、酸硫化物または多硫化物}

C01B 17/167 ・・{分離}

C01B 17/168 ・・{浄化}

C01B 17/18 ・・水素多硫化物

C01B 17/20 ・準備をしている硫化物または多硫化物のための方法、一般に(アンモニウム硫化物または多硫化物C01C；金属の硫化物または多硫化物、アルカリ金属以外の、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウム、サブクラスの関連したグループを参照C01F or C01G、金属によれば)

C01B 17/22 ・アルカリ金属硫化物または多硫化物

C01B 17/24 ・・減少による準備

C01B 17/26 ・・・カーボンを有する

C01B 17/28 ・・・ガスを減らすことに関する

C01B 17/30 ・・ナトリウムからの準備または硫黄または硫化物を有するカリウム・アマルガム

C01B 17/32 ・・ナトリウムまたはカリウムの水硫化物

C01B 17/34 ・・ナトリウムまたはカリウムの多硫化物

C01B 17/36 ・・浄化

C01B 17/38 ・・脱水

C01B 17/40 ・・成形された製品を製造すること、例えば微粒

C01B 17/42 ・マグネシウムの硫化物または多硫化物、カルシウム、ストロンチウム、またはバリウム

C01B 17/43 ・・硫黄または硫化水素を有する酸化物または水酸化物から

C01B 17/44 ・・硫酸塩の減少によって

C01B 17/45 ・硫黄およびハロゲンを含んでいる合成物、酸素の有無にかかわらず

C01B 17/4507 ・・{上記は、硫黄およびハロゲンだけを含む}

C01B 17/4515 ・・・{上記は、硫黄およびフッ素だけを含む}

C01B 17/4523 ・・・・{硫黄四フッ化素}

C01B 17/453 ・・・・{硫黄六フッ化物}

C01B 17/4538 ・・・{上記は、硫黄および塩素だけを含む}

C01B 17/4546 ・・・・{硫黄二塩化物}

C01B 17/4553 ・・・・{硫黄六塩化物}

C01B 17/4561 ・・{硫黄を含んでいる合成物、ハロゲンおよび酸素だけ}

C01B 17/4569 ・・・{チオニル・フッ化物(SOF2)}

C01B 17/4576 ・・・{スルフリル基フッ化物(SO2F2)}

C01B 17/4584 ・・・{チオニル塩化物(SOCl2)}

C01B 17/4592 ・・・{塩化スルフリル(SO2Cl2)}

C01B 17/46 ・硫黄を含んでいる合成物、ハロゲン、水素、そして、酸素

C01B 17/463 ・・{Fluoroスルホン基酸(FSO3H)}

C01B 17/466 ・・{Chloroスルホン基酸(ClSO3H)}

C01B 17/48 ・二酸化硫黄；亜硫酸

C01B 17/50 ・・二酸化硫黄の準備

C01B 17/501 ・・・{硫黄合成物の減少によって}

C01B 17/502 ・・・・{無水硫酸の}

C01B 17/503 ・・・・{硫酸の}

C01B 17/504 ・・・・{硫酸アンモニウムの(硫酸溶液を含んでいる硫酸アンモニウムのC01B 17/585)}

C01B 17/505 ・・・・{アルカリ金属硫酸塩の}

C01B 17/506 ・・・・{硫酸カルシウムの}

C01B 17/507 ・・・・{硫酸鉄の}

C01B 17/508 ・・・{硫黄合成物の酸化によって}

C01B 17/52 ・・・硫化物を焙焼することによって(C22B 1/00 優位をとる)

C01B 17/54 ・・・燃えている基本的な硫黄によって

C01B 17/56 ・・・分離；浄化

C01B 17/58 ・・・酸性タールからの二酸化硫黄の回復等{またはいかなる不用な硫酸からも}

C01B 17/585 ・・・・{硫酸溶液を含んでいる硫酸アンモニウムから}

C01B 17/60 ・・・ガスからの二酸化硫黄の隔離

C01B 17/62 ・準備をしている亜硫酸塩の一般に方法(特定の個々の亜硫酸塩、サブクラスの関連したグループを参照C01B to C01G、陽イオンによれば)

C01B 17/625 ・・{metabisulfitesまたはpyrosulfites}

C01B 17/64 ・チオ硫酸塩；亜ジチオン酸塩；Polythionates

C01B 17/66 ・・亜ジチオン酸塩{または亜ジチオン酸塩(S204 2-)}

C01B 17/665 ・・・{準備の後の添加物による安定化；添加物による塵防止}

C01B 17/69 ・無水硫酸；硫酸

C01B 17/70 ・・γ-形式無水硫酸の安定化

C01B 17/74 ・・準備

C01B 17/745 ・・・{硫酸塩から}

C01B 17/76 ・・・接触法によって

C01B 17/762 ・・・・{高圧プロセス}

C01B 17/765 ・・・・多段SO3-転換

C01B 17/7655 ・・・・・{中間の吸収を有する}

C01B 17/77 ・・・・流動化する台プロセス

C01B 17/775 ・・・・液相接触方法または湿式触媒作用プロセス

C01B 17/78 ・・・・使用する触媒によって、特徴付けられる

C01B 17/79 ・・・・・上記は、バナジウムを含む

C01B 17/80 ・・・・装置

C01B 17/803 ・・・・・{変換器群}

C01B 17/806 ・・・・・{吸収装置；熱交換器}

C01B 17/82 ・・・酸化窒素プロセスを使用している硫酸の

C01B 17/84 ・・・・室プロセス

C01B 17/86 ・・・・塔プロセス

C01B 17/88 ・・硫酸の濃度

C01B 17/90 ・・分離；浄化

C01B 17/901 ・・・{金属的イオンを含んでいる使いきった酸からの回復、例えば加水分解酸、酸を塩水につける（硫酸塩から無水硫酸回復の中間体として二酸化硫黄を得ること、例えば硫酸鉄C01B 17/501、使いきった酸からC01B 17/58)}

C01B 17/902 ・・・・{透析によって}

C01B 17/903 ・・・・{液体液体摘出によって}

C01B 17/904 ・・・・{イオン交換によって}

C01B 17/905 ・・・{有機不純物の除去}

C01B 17/906 ・・・{水銀の除去}

C01B 17/907 ・・・{ヒ素の除去}

C01B 17/908 ・・・{アンチモンまたはビスマスの除去}

C01B 17/92 ・・・酸性タールからの回復等、｛例えばアルキル化酸(そこから硫黄trioxode回復の中間体として二酸化硫黄を得ることC01B 17/58)}

C01B 17/925 ・・・・{液体液体摘出を含んでいる過程までに}

C01B 17/94 ・・・ニトロ化酸からの回復

C01B 17/96 ・硫酸塩の一般に準備のための方法(特定の個々の硫酸塩、サブクラスの関連したグループを参照C01B to C01G、陽イオンによれば)

C01B 17/965 ・・{ピロ硫酸塩}

C01B 17/98 ・硫黄および酸素を含んでいる他の合成物(ペルオキソ硫酸C01B 15/06；過硫酸塩C01B 15/08)

C01B 19/00 セレニウム；テルル；それの合成物(リン合成物C01B 25/14)

C01B 19/001 ・{液体液体摘出を含んでいる準備、吸着またはイオン交換}

C01B 19/002 ・{含むことを倍加させる、セレニウムまたはテルルの他に、他の複数の素子、を有する-O-、そして、-陰イオンと思われていないOH}

C01B 19/004 ・{酸化物；水酸化物}

C01B 19/005 ・{ハロゲン化物}

C01B 19/007 ・{金属のテルル化物またはセレン化物(C01B 19/002 優位をとる)}

C01B 19/008 ・{セレニウムまたはテルルの酸素酸の塩類}

C01B 19/02 ・基本的なセレニウムまたはテルル

C01B 19/04 ・二元化合物{上記は、バイナリのセレニウム・テルル合成物を含む(C01B 19/004, C01B 19/005, C01B 19/007 優位をとる)}

C01B 21/00 窒素；それの合成物

C01B 21/02 ・窒素の準備(アンモニアの分解によって{C01B 3/047})

C01B 21/04 ・窒素の浄化または分離(流動化することによってF25J)

C01B 21/0405 ・・{浄化または分離プロセス}

C01B 21/0411 ・・・{化学処理だけ}

C01B 21/0416 ・・・・{酸化によって}

C01B 21/0422 ・・・・{減少によって}

C01B 21/0427 ・・・・{complexationによって}

C01B 21/0433 ・・・{物理的な処理だけ}

C01B 21/0438 ・・・・{膜を利用することによって}

C01B 21/0444 ・・・・・{膜によって、特徴付けられる}

C01B 21/045 ・・・・{固体の吸着によって}

C01B 21/0455 ・・・・・{吸着性のものによって、特徴付けられる}

C01B 21/0461 ・・・・・・{カーボンは、材料の基礎を形成した}

C01B 21/0466 ・・・・・・{沸石}

C01B 21/0472 ・・・・・・{他の分子篩材料}

C01B 21/0477 ・・・・・{温度揺動吸着}

C01B 21/0483 ・・・・・{ゲッターの}

C01B 21/0488 ・・・・{液体の吸収によって}

C01B 21/0494 ・・・{合同の化学で物理的な処理}

C01B 21/06 ・シリコンについてはまたはホウ素については、金属を有する窒素の二元化合物｛またはカーボンを有する、すなわち窒化物；複数の金属を有する窒素の化合物、シリコンまたはホウ素}(アジ化物C01B 21/08)

C01B 21/0602 ・・{金属から選択される2つ以上の他の素子を有する、シリコンまたはホウ素}

C01B 21/0605 ・・{カーボンを有する窒素の二元化合物}

C01B 21/0607 ・・{アルカリ金属を有する}

C01B 21/061 ・・・{リチウムを有する}

C01B 21/0612 ・・{アルカリ土類金属を有する、ベリリウムまたはマグネシウム}

C01B 21/0615 ・・{チタン以外の遷移金属を有する、ジルコニウムまたはハフニウム}

C01B 21/0617 ・・・{バナジウムを有する、ニオブまたはタンタル}

C01B 21/062 ・・・{クロミウムを有する、モリブデンまたはタングステン}

C01B 21/0622 ・・・{鉄を有する、コバルトまたはニッケル}

C01B 21/0625 ・・・{銅を有する}

C01B 21/0627 ・・・{一つ以上の希土類元素を有する}

C01B 21/063 ・・・{一つ以上のアクチニド系列を有する、例えばUN、しゃれ}

C01B 21/0632 ・・{ガリウムを有する、インジウムまたはタリウム}

C01B 21/0635 ・・{ゲルマニウムを有する、スズまたは紐}

C01B 21/0637 ・・{グループの中に特定されない金属を有するC01B 21/0607 to C01B 21/0635、アルミニウム以外の、チタン、ジルコニウムまたはハフニウム}

C01B 21/064 ・・ホウ素を有する

C01B 21/0641 ・・・{基本的なホウ素の直接の窒化作用による準備}

C01B 21/0643 ・・・{ホウ素ハロゲン化物からの準備}

C01B 21/0645 ・・・{carboreductiveな窒化作用による準備}

C01B 21/0646 ・・・{ホウ素の熱分解および合成物を含んでいる窒素による準備}

C01B 21/0648 ・・・{後処理、例えば挽くこと、浄化(変換の立方であるかwurtziticな窒化ほう素に六角形であるC04B 35/5831)}

C01B 21/068 ・・シリコンを有する

C01B 21/0682 ・・・{シリコンの直接の窒化作用による準備}

C01B 21/0685 ・・・{carboreductiveな窒化作用による準備}

C01B 21/0687 ・・・{後処理、例えば挽くこと、浄化}

C01B 21/072 ・・アルミニウムを有する

C01B 21/0722 ・・・{アルミニウムの直接の窒化作用による準備}

C01B 21/0724 ・・・・{プラズマを使用すること}

C01B 21/0726 ・・・{carboreductiveな窒化作用による準備}

C01B 21/0728 ・・・{後処理、例えば挽くこと、浄化}

C01B 21/076 ・・チタンまたはジルコニウムを有する{またはハフニウム}

C01B 21/0761 ・・・{チタンの直接の窒化作用による準備、ジルコニウムまたはハフニウム}

C01B 21/0763 ・・・{チタンからの準備、ジルコニウムまたはハフニウム・ハロゲン化物}

C01B 21/0765 ・・・{carboreductiveな窒化作用による準備}

C01B 21/0766 ・・・{チタンを含んでいる窒素の熱分解による準備、ジルコニウムまたはハフニウム合成物}

C01B 21/0768 ・・・{後処理、例えば挽くこと、浄化}

C01B 21/08 ・アジ化水素酸；アジ化物；ハロゲン・アジ化物

C01B 21/082 ・窒素および非金属を含んでいる合成物{そして、任意に金属}(C01B 21/06, C01B 21/08 優位をとる)

C01B 21/0821 ・・{金属の酸素窒化物s、ホウ素またはシリコン}

C01B 21/0823 ・・・{シリコン酸素窒化物s}

C01B 21/0825 ・・・{アルミニウム酸素窒化物s}

C01B 21/0826 ・・・{シリコン・アルミニウム酸素窒化物s、すなわちサイアロン}

C01B 21/0828 ・・{金属のCarbonitridesまたはoxycarbonitrides、ホウ素またはシリコン}

C01B 21/083 ・・上記は、一つ以上のハロゲン原子を含む

C01B 21/0832 ・・・{ハロゲンを有する窒素の二元化合物}

C01B 21/0835 ・・・・{窒素三フッ化物}

C01B 21/0837 ・・・・・{浄化}

C01B 21/084 ・・・上記は、また、一つ以上の酸素原子を含む。例えばニトロシル・ハロゲン化物

C01B 21/0842 ・・・・{窒素酸化物のハロゲン化物}

C01B 21/0844 ・・・・・{ニトロシル・フッ化物}

C01B 21/0846 ・・・・・{ニトロシル塩化物}

C01B 21/0848 ・・・・{ニトロシル過塩素酸塩}

C01B 21/086 ・・上記は、一つ以上の硫黄原子を含む

C01B 21/0865 ・・・{硫黄を有する窒素の二元化合物}

C01B 21/087 ・・上記は、一つ以上の水素原子を含む

C01B 21/088 ・・・上記は、また、一つ以上のハロゲン原子を含む

C01B 21/09 ・・・・Halogeno-アミン、例えばクロラミン

C01B 21/091 ・・・・・{クロラミン、すなわちNH2Clまたはdichloramine、すなわちNHCl2}

C01B 21/092 ・・・上記は、また、一つ以上の金属原子を含む

C01B 21/0923 ・・・・{金属イミドまたはアミド(シリコン・イミドまたはアミドC01B 21/087)}

C01B 21/0926 ・・・・・{アルカリ金属の}

C01B 21/093 ・・・上記は、また、一つ以上の硫黄原子を含む

C01B 21/0935 ・・・・{Imidodiスルホン基酸；Nitrilotriスルホン基酸；それの塩類}

C01B 21/094 ・・・・酸を含んでいるニトロシル

C01B 21/096 ・・・・Amidoスルホン基酸；それの塩類

C01B 21/097 ・・上記は、リン原子を含む

C01B 21/0975 ・・・{上記は、また、一つ以上の硫黄原子を含む}

C01B 21/098 ・・・Phosphonitrilic dihalides；それの重合体

C01B 21/0983 ・・・・{Phosphonitrilicジフルオリド；それの重合体}

C01B 21/0986 ・・・・{Phosphonitrilic二塩化物；それの重合体}

C01B 21/12 ・・カルバミン酸{またはthiocarbamicな酸}；それの塩類

C01B 21/125 ・・・{金属カルバミン酸塩}

C01B 21/14 ・・ヒドロキシルアミン；それの塩類

C01B 21/1409 ・・・{準備}

C01B 21/1418 ・・・・{窒素酸化物の触媒減少または水素を有する硝酸塩によって}

C01B 21/1427 ・・・・{窒素酸化物の減少または重亜硫酸塩または二酸化硫黄を有する亜硝酸塩によって、例えばラシヒ過程までに}

C01B 21/1436 ・・・・{ガス位相の反応によって、例えば窒素の、水素および酸素}

C01B 21/1445 ・・・・{その塩類からのhydoxylamineの}

C01B 21/1454 ・・・・{一つ以上のグループにより適用されられない過程までのヒドロキシルアミン塩類のC01B 21/1418 to C01B 21/1445、例えばもう一方への1つの塩の転換によって}

C01B 21/1463 ・・・{集中}

C01B 21/1472 ・・・{分離}

C01B 21/1481 ・・・{浄化}

C01B 21/149 ・・・{安定化}

C01B 21/16 ・・ヒドラジン；それの塩類

C01B 21/20 ・窒素酸化物；窒素の酸素酸；それの塩類

C01B 21/203 ・・{プラズマまたは放電を使用している窒素酸化物の準備}

C01B 21/206 ・・{窒素無水物(N2O5) (C01B 21/203 優位をとる)}

C01B 21/22 ・・亜酸化窒素(N2O) {(C01B 21/203 優位をとる)}

C01B 21/24 ・・一酸化窒素(NO) {(C01B 21/203 優位をとる)}

C01B 21/26 ・・・そばに触媒準備{または非触媒である}アンモニアの酸化

C01B 21/262 ・・・・{二酸化窒素または四酸化物を得ること}

C01B 21/265 ・・・・{触媒によって、特徴付けられる}

C01B 21/267 ・・・・{悪化を予防するための手段または触媒のまたは失われた触媒を回復するための損失}

C01B 21/28 ・・・・装置

C01B 21/30 ・・・窒素の酸化による準備{(C01B 21/26 優位をとる)}

C01B 21/32 ・・・・装置

C01B 21/34 ・・窒素三酸化物(N2O3) {(C01B 21/203 優位をとる)}

C01B 21/36 ・・二酸化窒素(NO2、N2O4)({C01B 21/203}, C01B 21/26, C01B 21/30 優位をとる)

C01B 21/38 ・・硝酸

C01B 21/40 ・・・窒素の酸化物の吸収による準備{(C01B 21/26 優位をとる)}

C01B 21/42 ・・・硝酸塩からの準備

C01B 21/44 ・・・集中{(C01B 21/40 優位をとる)}

C01B 21/46 ・・・浄化；分離； {安定化(C01B 21/40 優位をとる)}

C01B 21/48 ・・硝酸塩の一般に準備のための方法(特定の個々の硝酸塩、サブクラスの関連したグループを参照C01B to C01G、陽イオンによれば)

C01B 21/50 ・・亜硝酸；それの塩類

C01B 23/00 貴ガス；それの合成物(流動化することF25J； {修正によって、得られる貴ガスF25J 3/028})

C01B 23/0005 ・{貴ガスの合成物}

C01B 23/001 ・{貴ガスの浄化または分離プロセス}

C01B 23/0015 ・・{化学処理だけ}

C01B 23/0021 ・・・{酸化によって}

C01B 23/0026 ・・・{減少によって}

C01B 23/0031 ・・・{complexationによって}

C01B 23/0036 ・・{物理的な処理だけ}

C01B 23/0042 ・・・{膜を利用することによって}

C01B 23/0047 ・・・・{膜によって、特徴付けられる}

C01B 23/0052 ・・・{固体の吸着によって}

C01B 23/0057 ・・・・{吸着性のものによって、特徴付けられる}

C01B 23/0063 ・・・・・{カーボンは、材料の基礎を形成した}

C01B 23/0068 ・・・・・{沸石}

C01B 23/0073 ・・・・・{他の分子篩材料}

C01B 23/0078 ・・・・{温度揺動吸着}

C01B 23/0084 ・・・・{ゲッターの}

C01B 23/0089 ・・・{液体の吸収によって}

C01B 23/0094 ・・{合同の化学で物理的な処理}

C01B 25/00 リン；それの合成物({C01B 6/00}, C01B 21/00, C01B 23/00 優位をとる；perphosphatesC01B 15/16)

C01B 25/003 ・{リン}

C01B 25/006 ・・{安定化(C01B 25/04 優位をとる)}

C01B 25/01 ・リンまたはリン合成物を得るためにリン酸塩鉱石または他の生リン酸塩材を処理すること

C01B 25/02 ・リンの準備

C01B 25/023 ・・赤リンの

C01B 25/027 ・・黄色のリンの

C01B 25/04 ・リンの浄化

C01B 25/043 ・・赤リンの

C01B 25/047 ・・黄色のリンの

C01B 25/06 ・水素リン化物

C01B 25/08 ・他のリン化物

C01B 25/081 ・・{アルカリ金属の、アルカリ土類金属またはマグネシウム}

C01B 25/082 ・・{ホウ素の、アルミニウム、ガリウムまたはインジウム}

C01B 25/084 ・・・{ホウ素の}

C01B 25/085 ・・・{アルミニウムの}

C01B 25/087 ・・・{ガリウムまたはインジウムの}

C01B 25/088 ・・{上記は、複数の金属を含む}

C01B 25/10 ・リンのハロゲン化物またはoxyhalides

C01B 25/12 ・リンの酸化物

C01B 25/14 ・硫黄、セレニウム、またはリンのテルル化合物

C01B 25/16 ・リンの酸素酸；それの塩類(ペルオキソ酸またはそれの塩類C01B 15/00)

C01B 25/161 ・・{上記は、5より少なく酸化数を有する少なくとも一つのリン原子を含む、それらの前述の下記以外の；それの塩類}

C01B 25/163 ・・亜リン酸；それの塩類

C01B 25/165 ・・Hypophosphorous酸；それの塩類

C01B 25/168 ・・Pyrophosphorous酸；それの塩類

C01B 25/18 ・・リン酸

C01B 25/185 ・・・{基本的なリンまたはリン無水物からもの酸を有する反応しているリン酸塩を含有する材料にもよる準備でない、例えばイオン交換樹脂を有する反応しているリン酸塩を含有する材料または使用する単独酸性塩によって}

C01B 25/20 ・・・基本的なリンまたはリン無水物からの準備

C01B 25/22 ・・・酸を有する反応しているリン酸塩を含有する材料による準備、例えば湿式プロセス

C01B 25/2204 ・・・・{湿式プロセスの反応しているphosphate-containingしている材料において、使用する容器の準備}

C01B 25/2208 ・・・・{酸または硫酸以外の酸の混成を有する}

C01B 25/2212 ・・・・・{水性媒体の塩化水素酸または塩化水素を有する}

C01B 25/2216 ・・・・・{水性媒体の硝酸または窒素を含む蒸気を有する}

C01B 25/222 ・・・・硫酸（主に硫酸からなる酸または元の位置にそれを形成している合成物の混成の混成）を有する例えば二酸化硫黄の混成、水および酸素

C01B 25/223 ・・・・・形成されている硫酸カルシウムの1つの形式だけ

C01B 25/2235 ・・・・・・{硬石膏プロセス}

C01B 25/225 ・・・・・・Dihydrateプロセス

C01B 25/226 ・・・・・・半水化物プロセス

C01B 25/228 ・・・・・形成されていて、他の形式にそれから変わる硫酸カルシウムの1つの形式

C01B 25/2285 ・・・・・・{Dihydrate-硬石膏または半水化物-硬石膏プロセス}

C01B 25/229 ・・・・・・半水化物dihydrateな方法

C01B 25/2295 ・・・・・・・{リン酸の反応後分離のために使用するそれらと異なる一つ以上の容器において、実行されている転換}

C01B 25/231 ・・・・・・Dihydrate-半水化物プロセス

C01B 25/232 ・・・・・濃硫酸を有する材料を含んでいて、その後得られた大量をlixiviatingしている反応しているリン酸塩による準備、例えば硬質煉瓦プロセス

C01B 25/234 ・・・浄化；安定化；集中(準備と両立する浄化C01B 25/22；溶解力がある溶媒抽出を含んでいる準備C01B 25/46)

C01B 25/2343 ・・・・{浄化と両立する集中、例えばフッ素の除去}

C01B 25/2346 ・・・・・{集中}

C01B 25/235 ・・・・説明；溶かされた不純物のポスト沈殿を予防する安定化

C01B 25/237 ・・・・不純物の選択的な除去{(C01B 25/2343 優位をとる)}

C01B 25/2372 ・・・・・{陰イオン不純物、例えば二酸化ケイ素またはホウ素合成物}

C01B 25/2375 ・・・・・・{フッ化物またはフルオロケイ酸塩陰イオン}

C01B 25/2377 ・・・・・・{硫酸塩}

C01B 25/238 ・・・・・陽イオン不純物、｛例えばヒ素合成物}

C01B 25/24 ・・縮合されたリン酸

C01B 25/26 ・・リン酸塩(perphosphatesC01B 15/16)

C01B 25/265 ・・・{リン酸塩を得る一般の方法}

C01B 25/28 ・・・リン酸アンモニウム

C01B 25/30 ・・・アルカリ金属リン酸塩

C01B 25/301 ・・・・{液体正リン酸からのまたはオルトエステルの酸性の溶液または懸濁液の状態からの準備(イオン交換体を使用することC01B 25/30)}

C01B 25/303 ・・・・・{不純物の除去を有する}

C01B 25/305 ・・・・{アルカリ処理によるリンを含有する合成物からの準備}

C01B 25/306 ・・・・・{リン酸塩から}

C01B 25/308 ・・・・{アルカリ金属オルトエステルを別のものに変換する方法；浄化；Decolorasing；水分を失うこと；乾燥すること}

C01B 25/32 ・・・マグネシウムのリン酸塩、カルシウム、ストロンチウム、またはバリウム

C01B 25/321 ・・・・{アルカリ土類金属オルトエステルを他のオルトエステルに変換するための方法（反応によって、例えばリン酸を有するリン灰岩のC01B 25/322)}

C01B 25/322 ・・・・{正リン酸の中和による準備}

C01B 25/324 ・・・・{正リン酸以外の酸によって、酸敗することによって、得られる反応溶液からの準備}

C01B 25/325 ・・・・{複分解による準備}

C01B 25/327 ・・・・{後処理(鉱石のリン酸塩含有量を増やすことC01B 25/32)}

C01B 25/328 ・・・・{準備の間か後のDefluorination}

C01B 25/34 ・・・・マグネシウム・リン酸塩

C01B 25/36 ・・・アルミニウム・リン酸塩

C01B 25/37 ・・・重合金のリン酸塩

C01B 25/372 ・・・・{チタンの、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、ハフニウムまたはタンタル}

C01B 25/375 ・・・・{鉄の}

C01B 25/377 ・・・・{マンガンの}

C01B 25/38 ・・・縮合りん酸塩

C01B 25/385 ・・・・{アルカリ土類金属またはマグネシウムの}

C01B 25/39 ・・・・アルカリ金属の

C01B 25/395 ・・・・・{準備および水分を失う}

C01B 25/40 ・・・・ポリリン酸塩

C01B 25/405 ・・・・・{アンモニウムの}

C01B 25/41 ・・・・・アルカリ金属の

C01B 25/412 ・・・・・・{アルカリ金属オルトエステルからの準備}

C01B 25/414 ・・・・・・・{装置}

C01B 25/416 ・・・・・・・{汚い出発原料からの純粋なアルカリ金属ポリリン酸塩}

C01B 25/418 ・・・・・・{後処理}

C01B 25/42 ・・・・ピロリン酸塩

C01B 25/425 ・・・・・{アルカリ金属の}

C01B 25/44 ・・・・メタリン酸塩

C01B 25/445 ・・・・・アルカリ金属の

C01B 25/45 ・・・上記は、複数の金属を含む、または金属およびアンモニウム

C01B 25/451 ・・・・{上記は、金属およびアンモニウムを含む}

C01B 25/453 ・・・・{分子篩特性を有する}

C01B 25/455 ・・・上記は、ハロゲンを含む{(完全にハロゲン化されたアルカリ金属リン酸塩C01D、例えばhexafluorophosphateなリチウムC01D 15/005)}

C01B 25/4555 ・・・・{次亜塩素酸塩-リン酸塩複塩、例えば4(Na3PO411H2O)。NaOClまたはいわゆる塩素で処理されたリン酸三ナトリウム}

C01B 25/46 ・・溶解力がある溶媒抽出を含んでいる準備(溶媒抽出一般にB01D 11/00)

C01B 25/461 ・・・{第1であることは形成されるかまたはそれから切り離される位相が水を用いて遊離酸としてまたは基本的合成物を用いてリン酸塩としてre-extractedした液体から引き出した反応の後、得られる媒体に存在するリン酸(酸に含まれる不純物の選択的な抽出C01B 25/237)}

C01B 25/462 ・・・・{アルコールである引き出している薬品またはアルコール類の混成}

C01B 25/463 ・・・・{ケトンである引き出している薬品またはケトン類の混成}

C01B 25/464 ・・・・{エーテルである引き出している薬品またはエーテルの混成}

C01B 25/465 ・・・・{エステルである引き出している薬品またはエステル類の混成}

C01B 25/466 ・・・・{窒素溶媒である引き出している薬品または窒素溶媒（例えばアミンまたはアミド）の混成}

C01B 25/467 ・・・{リン酸塩を含む材料反応ステップの間、すでにある引き出している薬品}

C01B 25/468 ・・・{反応泥漿に実行されている摘出、すなわち酸を分離せずに(C01B 25/232 優位をとる)}

C01B 31/00 カーボン；それの合成物({C01B 6/00}, C01B 21/00, C01B 23/00 優位をとる；percarbonatesC01B 15/10；カーボンブラックC09C 1/48；ガスカーボン生産C10B)

C01B 31/005 ・{カーボン・フッ化物、例えば (CF)n、または、(C2F)n (フッ素を有する黒鉛の挿入化合物の準備C01B 31/0415)}

C01B 31/02 ・カーボンの準備（極端な高圧を用いて、例えばダイヤモンドの形成のための、 B01J 3/06；水晶の成長によってC30B)；浄化； {後処理}

C01B 31/0206 ・・{ナノサイズ化カーボン材(グラフェンC01B 31/0438)}

C01B 31/0213 ・・・{フラーレン}

C01B 31/022 ・・・{カーボン・ナノチューブ}

C01B 31/0226 ・・・・{準備}

C01B 31/0233 ・・・・・{触媒によって、特徴づけられる}

C01B 31/024 ・・・・・{連続方法であること}

C01B 31/0246 ・・・・・{液相の}

C01B 31/0253 ・・・・{後処理}

C01B 31/026 ・・・・・{浄化}

C01B 31/0266 ・・・・・{ソート}

C01B 31/0273 ・・・・・{Derivatisation、溶媒の可溶化または分散}

C01B 31/028 ・・・・・{カット}

C01B 31/0286 ・・・・・{開くことまたは充填材}

C01B 31/0293 ・・・{非重要構造、例えばナノ・タマネギ、ナノ巻物、ナノ・ホーン、ナノ円錐またはナノ壁}

C01B 31/04 ・・修正された黒鉛を含んで、黒鉛例えば石墨の酸化物、介在黒鉛、発泡させた黒鉛またはグラフェン

C01B 31/0407 ・・・{浄化、鋼鉄製作において、形成される黒鉛の回復または浄化、例えばkish黒鉛}

C01B 31/0415 ・・・{挿入}

C01B 31/0423 ・・・{発泡させたかはげ落ちられた黒鉛}

C01B 31/043 ・・・{石墨の酸化物、石墨の酸またはそれの塩類}

C01B 31/0438 ・・・{グラフェン}

C01B 31/0446 ・・・・{準備}

C01B 31/0453 ・・・・・{CVDによって}

C01B 31/0461 ・・・・・{エピタキシャル成長によって}

C01B 31/0469 ・・・・・{剥脱によって}

C01B 31/0476 ・・・・・・{石墨の酸化物から始まること}

C01B 31/0484 ・・・・{後処理}

C01B 31/0492 ・・・・・{浄化}

C01B 31/06 ・・ダイヤモンド

C01B 31/065 ・・・{後処理、例えば浄化、照射}

C01B 31/08 ・活性炭

C01B 31/081 ・・{廃棄物から、例えばタイヤ、使いきった亜硫酸塩パルプ液}

C01B 31/082 ・・{石炭または石油の蒸留残りから；石油酸性沈積物から}

C01B 31/083 ・・{後処理、例えば浄化(粒状化C01B 31/14)}

C01B 31/084 ・・{コーティング；移植；マイクロカプセル化}

C01B 31/085 ・・{を有する"分子篩"特性}

C01B 31/086 ・・{準備、再開または物理的な過程までの再生、例えば照射によって、炭素質の貯蔵を通過している電流を用いて、リサイクル可能な不活発な加熱体を用いて}

C01B 31/087 ・・{再開または再生(物理的な過程までにC01B 31/086)}

C01B 31/088 ・・{装置(C01B 31/086 優位をとる)}

C01B 31/089 ・・{成形された製品を製造すること、例えば繊維、球体、膜、泡、または同類(粒状化C01B 31/14)}

C01B 31/10 ・・ガス状の活性化剤を用いて準備{(C01B 31/086, C01B 31/088 優位をとる)}

C01B 31/12 ・・非ガス状の活性化剤を用いて準備{(C01B 31/086, C01B 31/088 優位をとる)}

C01B 31/125 ・・・{金属的合成物を有する飽和による準備}

C01B 31/14 ・・粒状化(装置B01J 2/00)

C01B 31/18 ・一酸化炭素(金属カルボニルC01G)

C01B 31/20 ・二酸化炭素

C01B 31/22 ・・凝固すること

C01B 31/24 ・炭酸塩または重炭酸塩の一般に準備のための方法(percarbonatesC15/10；特定の個々の炭酸塩、関連したグループを中で参照C01B to C01G 陽イオンによれば)

C01B 31/26 ・カーボンおよび硫黄を含んでいる合成物、例えば二硫化炭素、カーボン酸硫化物；Thiophosgene

C01B 31/262 ・・{二硫化炭素}

C01B 31/265 ・・・{反応している硫黄による準備または炭化水素を有する硫黄合成物}

C01B 31/267 ・・{カーボン酸硫化物}

C01B 31/28 ・ホスゲン

C01B 31/30 ・カーバイド(合金C22)

C01B 31/301 ・・{Oxycarbides、sulfocarbidesまたは他の体を有するカーバイドの混合物、例えばグラファイト、他の非金属のカーバイド、例えばsilicocarbides、borocarbides}

C01B 31/303 ・・{下で適用されられない素子の単純なカーバイド}

C01B 31/305 ・・{炭化チタン}

C01B 31/306 ・・{アクチニド系列のカーバイド}

C01B 31/308 ・・{アルカリ金属のカーバイド、ストロンチウム、バリウムまたはマグネシウム；炭化カルシウムによって、それの混合物}

C01B 31/32 ・・炭化カルシウム

C01B 31/34 ・・タングステンまたはモリブデン・カーバイド

C01B 31/36 ・・シリコンまたはホウ素のカーバイド

C01B 33/00 シリコン；それの合成物({C01B 6/00}, C01B 21/00, C01B 23/00 優位をとる；persilicatesC01B 15/14；カーバイドC01B 31/36)

C01B 33/02 ・シリコン(単結晶または均一な多結晶材料を定義済み構造により形成することC30B)

C01B 33/021 ・・準備(蒸気位相からの化学コーティングC23C 16/00)

C01B 33/023 ・・・二酸化ケイ素の減少によって、または、{自由である}二酸化ケイ素を含有する材料

C01B 33/025 ・・・・カーボンまたは固体炭素質の材料を有する、すなわち炭素熱方法

C01B 33/027 ・・・二酸化ケイ素または二酸化ケイ素を含有する材料以外のガス状であるか蒸発するシリコン合成物の分解または減少によって

C01B 33/029 ・・・・monosilaneの分解によって

C01B 33/03 ・・・・シリコン・ハロゲン化物またはhalosilanesの分解または唯一の還元剤としての水素によって、それの減少によって

C01B 33/031 ・・・・・シリコンtetraiodideの分解によって

C01B 33/033 ・・・・金属を有するシリコン・ハロゲン化物またはhalosilanesの減少または唯一の還元剤としての金属的合金によって

C01B 33/035 ・・・・シリコン、カーボンまたは耐火性金属の被加熱フィラメントがある場合には、ガス状であるか蒸発するシリコン合成物の分解または減少によって、例えばタンタルまたは、あるいは、形成されたシリコン（得られているシリコン・ロッド）が堆積する被加熱シリコン・ロッドがある場合には、タングステン例えばシーメンス・プロセス

C01B 33/037 ・・浄化(帯域溶融によってC30B 13/00)

C01B 33/039 ・・・合成物へのシリコンの転換によって、合成物の任意の浄化、そして、シリコンへの再転換

C01B 33/04 ・シリコンの水素化物

C01B 33/043 ・・{Monosilane}

C01B 33/046 ・・{浄化}

C01B 33/06 ・金属ケイ素化合物(合金C22)

C01B 33/08 ・ハロゲンを含んでいる合成物

C01B 33/10 ・・シリコンを含んでいる合成物、フッ素、そして、他の素子

C01B 33/103 ・・・{Fluosilicic酸；それの塩類}

C01B 33/107 ・・ハロゲン化されたシラン

C01B 33/10705 ・・・{四フッ化素}

C01B 33/1071 ・・・{四塩化物、trichlorosilaneまたはsilicochloroform、dichlorosilane、monochlorosilaneまたはそれの混合物}

C01B 33/10715 ・・・・{シリコンまたはシリコンを含有する材料を有する反応している塩素によって、準備をした}

C01B 33/10721 ・・・・・{四塩化物の優先形成を有する}

C01B 33/10726 ・・・・・・{シリコンから}

C01B 33/10731 ・・・・・{trichlorosilaneの優先形成を有する}

C01B 33/10736 ・・・・・・{シリコンから}

C01B 33/10742 ・・・・{シリコンのまたはシリコンを含有する材料のhydrochlorinationによって、準備をした}

C01B 33/10747 ・・・・・{四塩化物の優先形成を有する}

C01B 33/10752 ・・・・・・{シリコンから}

C01B 33/10757 ・・・・・{trichlorosilaneの優先形成を有する}

C01B 33/10763 ・・・・・・{シリコンから}

C01B 33/10768 ・・・{Tetrabromide；Tetraiodide}

C01B 33/10773 ・・・{ハロゲン化されたシランの不均化によって、得られたハロゲン化されたシランおよび分子再配置}

C01B 33/10778 ・・・{浄化}

C01B 33/10784 ・・・・{吸着によって}

C01B 33/10789 ・・・・・{元の位置に形成されている材料を吸着すること、例えば部分的な加水分解によって}

C01B 33/10794 ・・・・{付加化合物または複合体を形成することによって、おそらく吸着剤に含まれている反応体}

C01B 33/113 ・シリコン酸化物；それの水和物{(珪酸を含む材料の減少による準備をしている一酸化物C01B 33/182)}

C01B 33/12 ・・二酸化ケイ素、それの水和物、例えばlepidoicなケイ酸

C01B 33/122 ・・・{Lepidoicケイ酸}

C01B 33/124 ・・・{ゲル形式の多孔性二酸化ケイ素を吸着しない準備、そして、微細に分けられない、すなわちシリコン骨格、珪酸を含む材料の酸性の処理によって}

C01B 33/126 ・・・{未定のタイプの二酸化ケイ素の準備}

C01B 33/128 ・・・・{水性ケイ酸塩溶液の酸性の処理によって}

C01B 33/14 ・・・コロイド二酸化ケイ素、例えば分散、ゲル類、ゾル

C01B 33/141 ・・・・ヒドロゾルまたは水性分散体の準備

C01B 33/1412 ・・・・・{基本的媒体のシリコンの酸化によって}

C01B 33/1415 ・・・・・{微細に分かれた二酸化ケイ素を水の中に懸濁することによって}

C01B 33/1417 ・・・・・・{得られている水性分散体}

C01B 33/142 ・・・・・ケイ酸塩の酸性の処理によって

C01B 33/143 ・・・・・・ケイ酸塩の水溶液の

C01B 33/1435 ・・・・・・・{イオン交換器を使用すること}

C01B 33/145 ・・・・hydroorganosolsの準備、有機媒体のオルガノゾルまたは分散

C01B 33/146 ・・・・ゾルの後処理({ヒドロゾルの準備またはhydroorganosolsからの水性分散体、有機媒体のオルガノゾルまたは分散C01B 33/141}；hydroorganosolsの準備、ヒドロゾルからの有機媒体のオルガノゾルまたは分散{または水性分散体}C01B 33/145)

C01B 33/1465 ・・・・・{"増強"1ソルだけを使用している分子の、そして、"かかと"ゾルから成ること}

C01B 33/148 ・・・・・集中；乾燥すること；脱水；安定化；浄化{(C01B 33/1465 優位をとる)}

C01B 33/1485 ・・・・・・{安定化、例えばゲル化する防止；浄化}

C01B 33/149 ・・・・・コーティング

C01B 33/151 ・・・・・すなわち、1ソルを異なるゾルに次第に加えることによって"増強"分子の使用する"かかと"

C01B 33/152 ・・・・ヒドロゲルの準備

C01B 33/1525 ・・・・・{fluosilicicな酸またはそれの塩類からまたはを経た}

C01B 33/154 ・・・・・水性ケイ酸塩溶液の酸性の処理によって

C01B 33/1543 ・・・・・・{イオン交換器を使用すること}

C01B 33/1546 ・・・・・・{混ざらない有機媒体へのはじめによるヒドロゲルに変わっているかまたは水によって、部分的に混合できる第1の形成されたヒドロゾル}

C01B 33/155 ・・・・hydroorganogelsまたはorganogelsの準備

C01B 33/157 ・・・・ゲル類の後処理

C01B 33/158 ・・・・・浄化；乾燥すること；水分を失うこと

C01B 33/1585 ・・・・・・{エーロゲルへの脱水}

C01B 33/159 ・・・・・コーティングまたはhydrophobisation

C01B 33/16 ・・・二酸化ケイ素xerogelsの準備

C01B 33/163 ・・・・{organosilicon合成物の加水分解によって、例えばorthosilicateなエチル}

C01B 33/166 ・・・・{不活性有機位相がある場合には、ケイ酸塩の酸性化によって}

C01B 33/18 ・・・ゾルものゲル形式もの微細に分かれた二酸化ケイ素の準備でない；それの後処理(ゲル類を脱水することによるエーロゲルの準備C01B 33/158；色素沈着するかまたは特性を満たすことを強化する処理C09C)

C01B 33/181 ・・・・{ドライプロセスによって}

C01B 33/182 ・・・・・{珪酸を含む材料の減少によって、例えば形成されるシリコン一酸化物の炭素質の還元剤および次の酸化を有する}

C01B 33/183 ・・・・・{シリコン合成物（例えばハロゲン化物）の蒸気位相の酸化または加水分解によって、trichlorosilane、monosilane}

C01B 33/184 ・・・・・・{四フッ化素の加水分解によって}

C01B 33/185 ・・・・・{分子篩特性を有する結晶性シリカ-多形体の、例えばシリカライト}

C01B 33/186 ・・・・{fluosilicicな酸または湿式の過程までにそれの塩類からまたはを経た}

C01B 33/187 ・・・・ケイ酸塩の酸性の処理によって

C01B 33/193 ・・・・・ケイ酸塩の水溶液の

C01B 33/20 ・ケイ酸塩(persilicatesC01B 15/14； {上記は、アルミニウムを含むC01B 33/26})

C01B 33/22 ・・マグネシウム・ケイ酸塩

C01B 33/24 ・・アルカリ土類金属ケイ酸塩

C01B 33/26 ・・アルミニウムを含有するケイ酸塩、｛すなわちsilico-アルミン酸塩}

C01B 33/28 ・・・ベース交換ケイ酸塩、例えば沸石(再生B01J 49/00)

C01B 33/2807 ・・・・{分子篩特性を備えているtridimensionalな結晶構造を有するZeolitic silicoaluminates；あるシリコンのアルミニウム鉱石の一部分が他の素子（例えばガリウム）と取り替えられるかもしれない同形の合成物、ゲルマニウム、リン；他のタイプのまたは予め形成された反応している混合物からの分子篩からのzeoliticな分子篩の準備(使われない、サブグループを参照)}

C01B 33/2815 ・・・・・{タイプAの(ユニオン・カーバイド商品名；グレイスのタイプZ-12またはZ-12Lと一致する)}

C01B 33/2823 ・・・・・・{アルカリ金属アルミン酸塩の水溶液およびアルミナまたは二酸化ケイ素の他のいかなる供給源も除外しているアルカリ金属ケイ酸塩から}

C01B 33/283 ・・・・・・{少なくとも一つのアルミニウム・ケイ酸塩を含んでいる反応混合物または粘土-タイプのアルミノケイ酸塩から、例えばカオリンまたはmetakaolin、または、そのexotherm変更態様またはアロフェン（酸によって、かなり化学的に修正される単一の粘土を含むすなわち起動状態を越えてC01B 33/2815)}

C01B 33/2838 ・・・・・{faujasiteタイプの、またはタイプXまたはY(ユニオン・カーバイド商品名；グレイスのタイプZ-14およびZ-14HSと一致する、それぞれ)}

C01B 33/2846 ・・・・・・{タイプXの}

C01B 33/2853 ・・・・・・{タイプYの}

C01B 33/2861 ・・・・・{mordeniteタイプの、例えばptiloliteまたはdachiardite}

C01B 33/2869 ・・・・・{Ｘ線スペクトルおよび確かな構成によって、特徴付けられる他のタイプの}

C01B 33/2876 ・・・・・{アミンまたは有機陽イオンを含んでいる反応している混合から、例えば４原子のオニウム陽イオン・アンモニウム、ホスホニウム、stibonium}

C01B 33/2884 ・・・・・{部分的に交換されているネットワークのアルミニウムまたはシリコン}

C01B 33/2892 ・・・・・{上記は素子を含む、または、合成物はネットワークの孔において、咬合した、例えばすでに始まっている反応混合物に存在する酸化物}

C01B 33/32 ・・アルカリ金属ケイ酸塩({C01B 33/20B}, C01B 33/26 優位をとる])

C01B 33/325 ・・・{後処理、例えば溶液（粒状化）（、）の浄化またはstabilsation解散、固体ケイ酸塩を得ること、例えばスプレーが乾燥することによる溶液から、水から光るかまたは凝固薬を加えること}

C01B 33/36 ・・ベース交換特性を有するが、分子篩特性を有しないこと(それの再生B01J 49/00)

C01B 33/38 ・・・層をなしたベース交換ケイ酸塩、例えば粘土、kenyaiteまたはmagadiiteタイプの雲母またはアルカリ金属ケイ酸塩{(自然に起こっている粘土の起動B01J 20/12；柱で支えられた層をなしたベース交換ケイ酸塩B01J 29/049)}

C01B 33/40 ・・・・粘土

C01B 33/405 ・・・・・{アルミニウムを含まないこと}

C01B 33/42 ・・・・雲母； {地層と地層の間に介在する粘土-雲母製品(陽イオン交換を含んでいる過程までに採取されるdelaminatedされた雲母またはバーミキュライト血小板C04B 14/208)}

C01B 33/425 ・・・・・{アルミニウムを含まないこと}

C01B 33/44 ・・・・有機化合物（例えばアンモニウム、ホスホニウムまたはスルホニウム合成物）を有するイオン交換によって、または有機化合物の挿入によって、層をなしたベース交換ケイ酸塩から得られる製品、例えばorganoclay材料

C01B 33/46 ・・・アモルファス・ケイ酸塩‖例えばいわゆるである"アモルファス沸石" (結晶沸石C01B 39/00)

C01B 35/00 ホウ素；それの合成物(monoborane、ジボラン、金属borohydridesまたはそれの追加複合体C01B 6/00；過ホウ酸塩C01B 15/12；窒素を有する二元化合物C01B 21/06； {貴ガスの合成物C01B 23/0005}；リン化物C01B 25/08；カーバイドC01B 31/36；ホウ素を含んでいる合金C22)

C01B 35/02 ・ホウ素；ホウ化物

C01B 35/023 ・・{ホウ素}

C01B 35/026 ・・{より高いホウ素水素化物、すなわち上記は、少なくとも3つのホウ素原子を含む}

C01B 35/04 ・・金属ホウ化物

C01B 35/06 ・ホウ素ハロゲン合成物

C01B 35/061 ・・{ハロゲン化物}

C01B 35/063 ・・{Tetrafluoboric酸；それの塩類}

C01B 35/065 ・・・{Tetrafluoboric酸}

C01B 35/066 ・・・{アルカリ金属tetrafluoborates}

C01B 35/068 ・・{ハロゲン化された水素化物}

C01B 35/08 ・ホウ素および窒素を含んでいる合成物、リン、酸素、硫黄、セレニウムまたはテルル

C01B 35/10 ・・ホウ素および酸素を含んでいる合成物(C01B 35/06 優位をとる)

C01B 35/1009 ・・・{分子篩特性を有する}

C01B 35/1018 ・・・{ホウ素水素化物に由来するカルボニル合成物}

C01B 35/1027 ・・・{酸化物}

C01B 35/1036 ・・・・{ボリッチ無水物}

C01B 35/1045 ・・・{酸素酸}

C01B 35/1054 ・・・・{正ホウ酸}

C01B 35/1063 ・・・・・{ホウ素鉱石からの準備または酸または塩類を使用しているホウ酸塩}

C01B 35/1072 ・・・・・・{アンモニア二酸化炭素によって}

C01B 35/1081 ・・・・・{他の自然のソースを仕上げることによる準備、例えば海水}

C01B 35/109 ・・・・・{浄化；分離；集中}

C01B 35/12 ・・・ホウ酸塩{(C01B 35/1063 優位をとる)}

C01B 35/121 ・・・・{アルカリ金属の}

C01B 35/122 ・・・・・{ホウ砂、それの水和物、例えばホウ砂}

C01B 35/123 ・・・・・・{ホウ素鉱石または他のホウ酸塩からの準備}

C01B 35/124 ・・・・・・{自然の塩水を作り上げることによる準備、例えば海水}

C01B 35/125 ・・・・・・{浄化；集中；脱水；安定化；他の後処理}

C01B 35/126 ・・・・{アルカリ土類金属の、ベリリウム、アルミニウムまたはマグネシウム}

C01B 35/127 ・・・・{重合金の}

C01B 35/128 ・・・・{複数の封じ込めが金属をかぶせるかまたは金属をかぶせる上記およびアンモニウム}

C01B 35/14 ・・ホウ素および窒素を含んでいる合成物、リン、硫黄、セレニウムまたはテルル

C01B 35/143 ・・・{リン酸塩}

C01B 35/146 ・・・{ホウ素および窒素を含んでいる合成物、例えばborazoles(アンモニウムtetrafluoboratesC01B 35/063；アンモニウム・ホウ酸塩C01B 35/12)}

C01B 37/00 分子篩特性を有しているが、ベース交換特性を有していない合成物

C01B 37/002 ・{アルミニウムを含んでいないMetallophosphates、例えばgallophosphatesまたはsilicogallophosphates}

C01B 37/005 ・{ケイ酸塩、すなわちいわゆるmetallosilicalitesまたはmetallozeosilites}

C01B 37/007 ・{ホウケイ酸塩}

C01B 37/02 ・結晶性シリカ-多形体、例えばシリカライト{dealuminatedされたアルミノケイ酸塩沸石}

C01B 37/04 ・アルミノリン酸塩(分離合成物)

C01B 37/06 ・他の素子を含んでいるアルミノリン酸塩、例えば金属、ホウ素

C01B 37/065 ・・{金属だけである他の素子}

C01B 37/08 ・・Silicoaluminophosphates（SAPO合成物）、｛例えばCoSAPO}

C01B 39/00 分子篩およびベース交換特性を有する合成物、例えば結晶沸石、それらの準備、後処理、例えばイオン交換またはdealumination(吸収特性を修正する処理、例えばバインダを使用することを形づくること、 B01J 20/10；触媒特性を修正する処理、例えば沸石を触媒としてのそれらの用途にふさわしくする処理の組合せ、 B01J 29/04；イオン交換特性を改善する処理B01J 39/14；イオン交換特性の再生または再開B01J 49/00；洗剤において、使用する安定するサスペンションの準備C11D 3/12)

C01B 39/02 ・結晶アルミノケイ酸塩沸石；それの同形の合成物；それの直接的な準備；他のタイプの結晶沸石を含んでいる反応混合物から始まってそれの準備、または予め形成された反応体から；それの後処理

C01B 39/023 ・・{物理的な混合物の準備またはグループから選択される沸石の群生製品C01B 39/04 またはグループのうちの2つ以上C01B 39/14 to C01B 39/48}

C01B 39/026 ・・{後処理}

C01B 39/04 ・・薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること、例えばイオンの第四アンモニウム化合物またはaminatedされた合成物

C01B 39/06 ・・他の素子の原子によって、アルミニウムを交換するための手段または格子のフレームワークのシリコン原子によって、特徴付けられる同形の沸石の準備、｛すなわち直接であるか第２の合成によって}

C01B 39/065 ・・・{Galloaluminosilicates；グループIVB-metalloaluminosilicates；Ferroaluminosilicates}

C01B 39/08 ・・・まったく交換されているアルミニウム原子

C01B 39/082 ・・・・{Gallosilicates}

C01B 39/085 ・・・・{グループIVB-metallosilicates}

C01B 39/087 ・・・・{Ferrosilicates}

C01B 39/10 ・・・原子存在を交換すること{少なくとも}リン原子

C01B 39/12 ・・・原子存在を交換すること{少なくとも}ホウ素原子

C01B 39/14 ・・タイプA

C01B 39/145 ・・・{薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること}

C01B 39/16 ・・・アルカリ金属アルミン酸塩の水溶液およびアルミナまたは二酸化ケイ素の他のいかなる供給源も、しかし、種を除外しているアルカリ金属ケイ酸塩から{(C01B 39/145 優位をとる)}

C01B 39/18 ・・・少なくとも一つのアルミニウム・ケイ酸塩を含んでいる反応混合物または粘土タイプのアルミノケイ酸塩から、例えばカオリンまたはmetakaolin、または、そのexotherm変更態様‖またはアロフェン‖{(C01B 39/145 優位をとる)}

C01B 39/20 ・・Faujasiteタイプ、例えばタイプXまたはY

C01B 39/205 ・・・{薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること；六角形のfaujasite；立方で六角形のfaujasiteの群生製品}

C01B 39/22 ・・・タイプX{(C01B 39/205 優位をとる)}

C01B 39/24 ・・・タイプY{(C01B 39/205 優位をとる)}

C01B 39/26 ・・Mordeniteタイプ{(C01B 39/023, C01B 39/026, C01B 39/06 優位をとる)}

C01B 39/265 ・・・{薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること}

C01B 39/28 ・・Phillipsiteまたは重十字沸石タイプ{(C01B 39/023, C01B 39/026, C01B 39/06 優位をとる)}

C01B 39/30 ・・Erioniteまたはoffretiteタイプ、例えば沸石T

C01B 39/305 ・・・{薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること}

C01B 39/32 ・・タイプL

C01B 39/34 ・・タイプZSM-4

C01B 39/36 ・・Pentasilタイプ、例えばタイプZSM-5、ZSM-8またはZSM-11

C01B 39/365 ・・・{タイプZSM-8；タイプZSM-11；ZSM 5/11の中間体}

C01B 39/38 ・・・タイプZSM-5

C01B 39/40 ・・・・薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること

C01B 39/42 ・・タイプZSM-12

C01B 39/44 ・・Ferrieriteタイプ、例えばタイプZSM-21、ZSM-35またはZSM-38

C01B 39/445 ・・・{薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること}

C01B 39/46 ・・それらのＸ線回折パターンおよびそれらの定義済みの構成によって、特徴付けられる他のタイプ{(C01B 39/023, C01B 39/026, C01B 39/06 優位をとる)}

C01B 39/48 ・・・薬品を導いている少なくとも一つの有機テンプレートを使用すること

C01B 39/50 ・無機塩基または塩類が格子のフレームワークのチャネルをふさぐ沸石、例えば方ソーダ石、カンクリナイト、nosean、藍方石{(紺青C09C 1/32)}

C01B 39/52 ・・方ソーダ石

C01B 39/54 ・リン酸塩、例えば分離、または、SAPOが倍加させる

C01B 2201/00 電気放出によるオゾンの準備

C01B 2201/10 ・オゾンの製造のために使用する射出装置

C01B 2201/12 ・・皿タイプ射出装置

C01B 2201/14 ・・同心円/管状射出装置

C01B 2201/20 ・電気放出を得るために使用する電極

C01B 2201/22 ・・電極の構造上の詳細

C01B 2201/24 ・・電極の構成

C01B 2201/30 ・電気射出装置において、使用する誘電体

C01B 2201/32 ・・誘電体の構造上の詳細

C01B 2201/34 ・・誘電体の組成

C01B 2201/40 ・直列に数人の放出者を使用すること

C01B 2201/50 ・再利用されている製品の一部分

C01B 2201/60 ・電気射出装置のための供給物流

C01B 2201/62 ・・空気

C01B 2201/64 ・・酸素

C01B 2201/66 ・・供給の前処理

C01B 2201/70 ・射出装置の冷却；冷却を不必要にするための手段

C01B 2201/72 ・・空気によって

C01B 2201/74 ・・液体によって

C01B 2201/76 ・・・水

C01B 2201/80 ・電気放出と一緒に起こっている追加的な方法、例えば触媒方法

C01B 2201/82 ・・紫外線光を有する処理

C01B 2201/84 ・・磁界を有する処理

C01B 2201/90 ・方法の制御

C01B 2202/00 構造またはカーボン・ナノチューブの特性

C01B 2202/02 ・シングルの壁のナノチューブ

C01B 2202/04 ・壁の特定の量を有するナノチューブ

C01B 2202/06 ・マルチ壁のあるナノチューブ

C01B 2202/08 ・整列配置されたナノチューブ

C01B 2202/10 ・満たされたナノチューブ

C01B 2202/20 ・それらの特性によって、特徴づけられるナノチューブ

C01B 2202/22 ・・電子特性

C01B 2202/24 ・・熱特性

C01B 2202/26 ・・機械的性質

C01B 2202/28 ・・溶媒の容積

C01B 2202/30 ・・純度

C01B 2202/32 ・・比表面積

C01B 2202/34 ・・長さ

C01B 2202/36 ・・直径

C01B 2203/00 水素または合成用原料ガスの生産のための統合化方法(原子炉またはそれの詳細B01J 2208/00 to B01J 2219/00)

C01B 2203/02 ・水素または合成用原料ガスを作る方法

C01B 2203/0205 ・・上記は、改善されているステップを含む

C01B 2203/0211 ・・・上記は、非触媒改善されているステップを含む

C01B 2203/0216 ・・・・上記は、非触媒水蒸気改質ステップを含む

C01B 2203/0222 ・・・・上記は、ステップを改革している非触媒二酸化炭素を含む

C01B 2203/0227 ・・・上記は、触媒改善されているステップを含む

C01B 2203/0233 ・・・・水蒸気改質ステップである改善されているステップ

C01B 2203/0238 ・・・・ステップを改革している二酸化炭素である改善されているステップ

C01B 2203/0244 ・・・・autothermalな改善されているステップである改善されているステップ、例えば第２の改善されている方法

C01B 2203/025 ・・上記は、部分酸化ステップを含む

C01B 2203/0255 ・・・上記は、非触媒部分酸化ステップを含む

C01B 2203/0261 ・・・上記は、触媒部分酸化ステップを含む(CPO)

C01B 2203/0266 ・・上記は、分解ステップを含む

C01B 2203/0272 ・・・上記は、非触媒分解ステップを含む

C01B 2203/0277 ・・・上記は、促進分解ステップを含む

C01B 2203/0283 ・・上記は、共同シフト・ステップを含む。すなわち水性ガス・シフト・ステップ

C01B 2203/0288 ・・・上記は、2つの共同シフト・ステップを含む

C01B 2203/0294 ・・・上記は、3つ以上の共同シフト・ステップを含む

C01B 2203/04 ・上記は、水素または合成用原料ガスのための浄化ステップを含む

C01B 2203/0405 ・・膜分離による浄化

C01B 2203/041 ・・・水素生産の間の元の位置の膜浄化

C01B 2203/0415 ・・液体の吸収による浄化

C01B 2203/042 ・・固体上の吸着による浄化

C01B 2203/0425 ・・・水素生産の間の元の位置の吸着プロセス

C01B 2203/043 ・・・2枚以上の層の再生する吸着プロセス、吸着のための1、再生のためのその他

C01B 2203/0435 ・・触媒浄化

C01B 2203/044 ・・・一酸化炭素の選択酸化

C01B 2203/0445 ・・・選択的なメタン生成

C01B 2203/045 ・・・触媒脱硫による浄化

C01B 2203/0455 ・・非触媒脱硫による浄化

C01B 2203/046 ・・深令分離法による浄化

C01B 2203/0465 ・・不純物の組成

C01B 2203/047 ・・・一酸化炭素であるimpurety

C01B 2203/0475 ・・・二酸化炭素であるimpurety

C01B 2203/048 ・・・有機化合物であるimpurety

C01B 2203/0485 ・・・硫黄であることは倍加させるimpurety

C01B 2203/049 ・・・カーボンであるimpurety

C01B 2203/0495 ・・・水であるimpurety

C01B 2203/06 ・他の化学プロセスを有する統合

C01B 2203/061 ・・メタノール生産

C01B 2203/062 ・・炭化水素生産、例えばフィッシャートロプシュ法

C01B 2203/063 ・・精練所プロセス

C01B 2203/065 ・・・水素処理することを使用すること、例えば水素化処理、水素化脱硫

C01B 2203/066 ・・燃料電池を有する

C01B 2203/067 ・・・燃料電池において、起こっている改善されている方法

C01B 2203/068 ・・アンモニア合成

C01B 2203/08 ・加熱または冷却の方法

C01B 2203/0805 ・・水素または合成用原料ガスを作る方法を加熱する方法

C01B 2203/0811 ・・・燃料の燃焼によって

C01B 2203/0816 ・・・・炎による加熱

C01B 2203/0822 ・・・・水素を含んでいる燃料

C01B 2203/0827 ・・・・再循環流である燃料で最少のパートで

C01B 2203/0833 ・・・熱い流体を有する間接的な熱交換による加熱、燃焼ガス以外の、製品ガスまたは非combustiveな発熱反応製品ガス

C01B 2203/0838 ・・・発熱反応を有する熱交換によって、燃料の燃焼以外の

C01B 2203/0844 ・・・・グループにおいて、定義した改善されている他の反応である非combustiveな発熱反応C01B 2203/02 to C01B 2203/0294

C01B 2203/085 ・・・電気加熱によって

C01B 2203/0855 ・・・電磁暖房によって

C01B 2203/0861 ・・・プラズマによって

C01B 2203/0866 ・・・異なる加熱法の組合せによって

C01B 2203/0872 ・・冷える方法

C01B 2203/0877 ・・・流体の直接噴射によって

C01B 2203/0883 ・・・間接的な熱交換によって

C01B 2203/0888 ・・・流体の蒸発によって

C01B 2203/0894 ・・・・蒸気の発生

C01B 2203/10 ・反応を形成している水素を実行するための触媒

C01B 2203/1005 ・・準備または触媒の形状

C01B 2203/1011 ・・・触媒構造の包装された層、例えば分子、パッキング素子

C01B 2203/1017 ・・・・構造の形式によって、特徴付けられる

C01B 2203/1023 ・・・モノリスまたはハネコムの形の触媒

C01B 2203/1029 ・・・泡の形の触媒

C01B 2203/1035 ・・・器材面におおわれている触媒、例えば反応器壁

C01B 2203/1041 ・・触媒の構成

C01B 2203/1047 ・・・グループVIII金属触媒

C01B 2203/1052 ・・・・ニッケルまたはコバルト色の触媒

C01B 2203/1058 ・・・・・ニッケル触媒

C01B 2203/1064 ・・・・プラチナ・グループ金属触媒

C01B 2203/107 ・・・・・プラチナ触媒

C01B 2203/1076 ・・・銅または亜鉛に基づく触媒

C01B 2203/1082 ・・・支持材料シートの構成

C01B 2203/1088 ・・・非支えられた触媒

C01B 2203/1094 ・・・促進剤または活性剤

C01B 2203/12 ・水素または合成用原料ガスを作る方法を供給すること

C01B 2203/1205 ・・原材料の組成

C01B 2203/1211 ・・・有機化合物または水素または合成用原料ガスを作る方法で使用する有機混合物

C01B 2203/1217 ・・・・アルコール類

C01B 2203/1223 ・・・・・メタノール

C01B 2203/1229 ・・・・・エタノール

C01B 2203/1235 ・・・・炭化水素

C01B 2203/1241 ・・・・・天然ガスまたはメタン

C01B 2203/1247 ・・・・・より高い炭化水素

C01B 2203/1252 ・・・・・周期的であるか芳香族の炭化水素

C01B 2203/1258 ・・供給の前処理

C01B 2203/1264 ・・・供給の触媒前処理

C01B 2203/127 ・・・・触媒脱硫

C01B 2203/1276 ・・異なる供給構成素子の中で混じること

C01B 2203/1282 ・・・静的混合器を使用すること

C01B 2203/1288 ・・異なる供給構成素子の一つ以上の蒸発

C01B 2203/1294 ・・・熱い方法流を有する熱交換による蒸発

C01B 2203/14 ・フローシートの詳細

C01B 2203/141 ・・改善されている少なくとも2、平行な分解または部分酸化ステップ

C01B 2203/142 ・・改善されている少なくとも2、分解または部分酸化は、直列に進む

C01B 2203/143 ・・・改善されている3以上、分解または部分酸化は、直列に進む

C01B 2203/145 ・・平行な少なくとも2つの浄化ステップ

C01B 2203/146 ・・少なくとも2つの浄化ステップ直列に

C01B 2203/147 ・・・3つ以上の浄化ステップ直列に

C01B 2203/148 ・・水素または合成用原料ガスを作る方法の供給に再循環流を含むこと

C01B 2203/16 ・方法を制御すること

C01B 2203/1604 ・・方法をスタートすること

C01B 2203/1609 ・・方法をシャットダウンすること

C01B 2203/1614 ・・温度を制御すること

C01B 2203/1619 ・・・温度を測定すること

C01B 2203/1623 ・・・温度を調整すること

C01B 2203/1628 ・・圧力を制御すること

C01B 2203/1633 ・・・圧力を測定すること

C01B 2203/1638 ・・・圧力を調整すること

C01B 2203/1642 ・・製品を制御すること

C01B 2203/1647 ・・・製品の量を制御すること

C01B 2203/1652 ・・・・製品の量を計量すること

C01B 2203/1657 ・・・・・水素である製品

C01B 2203/1661 ・・・・・一酸化炭素である製品

C01B 2203/1666 ・・・・・二酸化炭素である製品

C01B 2203/1671 ・・・製品の組成を制御すること

C01B 2203/1676 ・・・・製品の組成を測定すること

C01B 2203/168 ・・・・製品の組成を調整すること

C01B 2203/1685 ・・下流の方法の需要に基づく制御

C01B 2203/169 ・・供給を制御すること

C01B 2203/1695 ・・燃焼の供給を調整すること

C01B 2203/80 ・水素の生産またはグループにおおわれない合成用原料ガスのための統合化方法の態様C01B 2203/02 to C01B 2203/1695

C01B 2203/82 ・・方法が進むいくつかC01B 2203/02 to C01B 2203/08 単一の装置に組み込まれる

C01B 2203/84 ・・エネルギー生産

C01B 2203/86 ・・二酸化炭素隔離

C01B 2204/00 構造またはグラフェンの特性

C01B 2204/02 ・一つの層グラフェン

C01B 2204/04 ・層または特定の厚みの特定の量

C01B 2204/06 ・グラフェン ナノリボン

C01B 2204/065 ・・それらの幅によって、またはそれらのアスペクトレシオによって、特徴づけられる

C01B 2204/20 ・その特性によって、特徴づけられるグラフェン

C01B 2204/22 ・・電子特性

C01B 2204/24 ・・熱特性

C01B 2204/26 ・・機械的性質

C01B 2204/28 ・・溶媒の容積

C01B 2204/30 ・・純度

C01B 2204/32 ・・サイズまたは表面積

C01B 2210/00 特定のガスの浄化または分離

C01B 2210/0001 ・分離または浄化処理

C01B 2210/0003 ・・化学処理

C01B 2210/0004 ・・・酸化によって

C01B 2210/0006 ・・・減少によって

C01B 2210/0007 ・・・complexationによって

C01B 2210/0009 ・・物理的な処理

C01B 2210/001 ・・・膜を利用することによって

C01B 2210/0012 ・・・・膜によって、特徴付けられる

C01B 2210/0014 ・・・固体の吸着によって

C01B 2210/0015 ・・・・吸着性のものによって、特徴付けられる

C01B 2210/0017 ・・・・・カーボンに基づく材料

C01B 2210/0018 ・・・・・沸石

C01B 2210/002 ・・・・・他の分子篩材料

C01B 2210/0021 ・・・・温度揺動吸着

C01B 2210/0023 ・・・・ゲッターの

C01B 2210/0025 ・・・液体の吸収によって

C01B 2210/0026 ・特定のガスの同位元素

C01B 2210/0028 ・この特定のガスの軽微な量を含んでいるガス混合物からの特定のガスの分離

C01B 2210/0029 ・貴ガスを得ること

C01B 2210/0031 ・・ヘリウム

C01B 2210/0032 ・・ネオン

C01B 2210/0034 ・・アルゴン

C01B 2210/0035 ・・クリプトン

C01B 2210/0037 ・・キセノン

C01B 2210/0039 ・・ラドン

C01B 2210/004 ・・貴ガスの混成の分離

C01B 2210/0042 ・超高純度の特定のガスを作ること

C01B 2210/0043 ・除去される不純物

C01B 2210/0045 ・・酸素

C01B 2210/0046 ・・窒素

C01B 2210/0048 ・・空気

C01B 2210/005 ・・一酸化炭素

C01B 2210/0051 ・・二酸化炭素

C01B 2210/0053 ・・水素

C01B 2210/0054 ・・水素ハロゲン化物

C01B 2210/0056 ・・・フッ化水素

C01B 2210/0057 ・・・塩化水素

C01B 2210/0059 ・・・臭化水素

C01B 2210/006 ・・・ヨウ化水素

C01B 2210/0062 ・・水

C01B 2210/0064 ・・硫化水素

C01B 2210/0065 ・・アンモニア

C01B 2210/0067 ・・シアン化水素

C01B 2210/0068 ・・有機化合物

C01B 2210/007 ・・・炭化水素

C01B 2210/0071 ・・硫黄酸化物

C01B 2210/0073 ・・硫黄ハロゲン化物

C01B 2210/0075 ・・窒素酸化物

C01B 2210/0076 ・・窒素ハロゲン化物

C01B 2210/0078 ・・貴ガス

C01B 2210/0079 ・・・ヘリウム

C01B 2210/0081 ・・・ネオン

C01B 2210/0082 ・・・アルゴン

C01B 2210/0084 ・・・クリプトン

C01B 2210/0085 ・・・キセノン

C01B 2210/0087 ・・・ラドン

C01B 2210/0089 ・・過酸化物

C01B 2210/009 ・・・過酸化水素

C01B 2210/0092 ・・オゾン

C01B 2210/0093 ・・金属または金属合成物

C01B 2210/0095 ・・・金属

C01B 2210/0096 ・・・金属水素化物

C01B 2210/0098 ・・他の不純物