WebCPC CPC COOPERATIVE PATENT CLASSIFICATION
C07B 有機化学の一般の方法；そのための装置(テロメリゼーションによるカルボン酸エステル類の準備C07C 67/47；テロメリゼーションC08F)
C07B 31/00 減少一般に
C07B 33/00 酸化一般に
形成のない反応またはヘテロ原子を含んでいる官能基の導入C07B 35/00 形成のない反応またはヘテロ原子を含んでいる官能基の導入、変化をすでに直接連結される2つの炭素原子の間で接着することのタイプに関係させること
C07B 35/02 ・減少
C07B 35/04 ・脱水素
C07B 35/06 ・分解、例えばハロゲンの除去、水または水素ハロゲン化物
C07B 35/08 ・異性化
C07B 37/00 形成のない反応またはヘテロ原子を含んでいる官能基の導入、直接すでに直接連結されない2つの炭素原子間の炭素結合の形成か2の切断を含むことは、炭素原子を連結した
C07B 37/02 ・加算
C07B 37/04 ・置換
C07B 37/06 ・分解、例えば二酸化炭素の除去
C07B 37/08 ・異性化
C07B 37/10 ・環化
C07B 37/12 ・・ディールス‐アルダー反応
形成を有する反応またはヘテロ原子を含んでいる官能基の導入C07B 39/00 ハロゲン化
C07B 41/00 形成または酸素を含んでいる官能基の導入
C07B 41/02 ・水酸基を含むまたはO-金属グループの
C07B 41/04 ・エーテルの、アセタールまたはケタール・グループ
C07B 41/06 ・カルボニル基の
C07B 41/08 ・カルボキシル基または塩類の、ハロゲン化物またはそれの無水物
C07B 41/10 ・・塩類、カルボキシル基のハロゲン化物または無水物
C07B 41/12 ・カルボン酸エステル・グループの
C07B 41/14 ・ヒドロペルオキシ・グループのペルオキシの
C07B 43/00 形成または窒素を含んでいる官能基の導入
C07B 43/02 ・ニトロまたはニトロソ基の
C07B 43/04 ・アミノ基の
C07B 43/06 ・アミド・グループの
C07B 43/08 ・シアン基のグループの
C07B 43/10 ・イソシアン酸塩グループの
C07B 45/00 形成または硫黄を含んでいる官能基の導入
C07B 45/02 ・スルホまたはsulfonyldioxyグループの
C07B 45/04 ・スルホニル基またはスルフィニル・グループの
C07B 45/06 ・１価のSH基を含むまたは硫化物グループの
C07B 47/00 形成またはグループの中に提供されない官能基の導入C07B 39/00 to C07B 45/00
C07B 49/00 グリニャール反応
C07B 51/00 グループを保護するかまたはグループを起動させることの導入、前のグループにおいて、提供されない
C07B 53/00 非対称の合成
C07B 55/00 ラセミ化；完全もしくは部分的逆転
C07B 57/00 光学活性合成物の分離
C07B 59/00 有機化合物への素子の同位元素の導入； {それ自体、有機化合物と分類される}
C07B 59/001 ・{非周期的な炭素環式化合物}
C07B 59/002 ・{複素環式合成物}
C07B 59/004 ・{非周期的である、カーボン以外の素子を含んでいる炭素環または複素環式合成物、水素、ハロゲン、酸素、窒素、硫黄、セレニウムまたはテルル}
C07B 59/005 ・{砂糖；それの誘導剤；ヌクレオシド；ヌクレオチド；核酸}
C07B 59/007 ・{ステロイド}
C07B 59/008 ・{ペプチド；タンパク質}
C07B 61/00 他の一般の方法
C07B 61/02 ・有機遊離基の生成； {有機遊離基それ自体、}
浄化；分離；安定化C07B 63/00 浄化；分離(光学活性合成物の分離C07B 57/00)；安定化；添加物の使用
C07B 63/02 ・化学的処理を引き起こしている処理によって
C07B 63/04 ・添加物の使用{(一般に化学変化を阻害している抗酸化剤組成物または組成物C09K 15/00)}
C07B 2200/00 有機化合物の特定の特性に関する索引計画
C07B 2200/01 ・電荷移動複合体
C07B 2200/03 ・遊離基
C07B 2200/05 ・同位元素的に修正された合成物、例えばラベルをつけられる
C07B 2200/07 ・光学異性体
C07B 2200/09 ・幾何学的な異性体
C07B 2200/11 ・強力なサポートに共有結合した合成物
C07B 2200/13 ・結晶形、例えば多形体
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