C 化学；冶金　WebFI　FI記号=2010年8月版
　　＜注＞（１）セクションＣにおいて，化学元素の種類に関する定義は次の通りである：
　　アルカリ金属：Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｆｒ
　　アルカリ土類金属：Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａ
　　ランタニド：原子番号５７から７１までの元素
　　希土類：Ｓｃ，Ｙ，ランタニド
　　アクチニド：原子番号８９から１０３までの元素
　　耐火金属：Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ
　　ハロゲン：Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，Ａｔ
　　希ガス：Ｈｅ，Ｎｅ，Ａｒ，Ｋｒ，Ｘｅ，Ｒｎ
　　白金族：Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ
　　貴金属：Ａｇ，Ａｕ，白金族
　　軽金属：アルカリ金属，アルカリ土類金属，Ｂｅ，Ａｌ，Ｍｇ
　　重金属：軽金属以外の金属
　　鉄族：Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ
　　非金属：Ｈ，Ｂ，Ｃ，Ｓｉ，Ｎ，Ｐ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ，希ガス，ハロゲン
　　金属：非金属以外の元素
　　遷移元素：原子番号２１から３０まで，３９から４８まで，５７から８０まで，８９以上の元素
　　（２）Ｃセクションは以下のものを包含する：
　　（ａ）無機化合物，有機化合物，高分子化合物およびそれらの調製法を包含する純粋化学；
　　（ｂ）たとえばガラス，セラミック，肥料，プラスチック組成物，ペイント，石油工業の製品のような上記化合物を含有する組成物を包含する応用化学。それはまた，爆発物，染料，接着剤，潤滑剤および洗剤のように，ある目的に適した特別の性質をもつための組成物をも包含する；
　　（ｃ）コークスの製造，固体または気体燃料の製造，油脂およびろうの製造および精製，発酵工業（例．ビールおよびぶどう酒の製造），製糖工業のようなある境界工業；
　　（ｄ）ある操作または処理であって，純粋に機械的な処理，例．レザーおよび皮の機械的処理，または部分的機械的処理，例．水処理，または腐食防止一般であるもの；
　　（ｅ）冶金，鉄または非鉄合金
　　（３）ＩＰＣの全てのセクションにおいて，相反する指示がない限り、元素記号周期律表への言及は、以下に示す８つのグループを表す。例えば、グループＣ０７Ｆ３／００「周期律表の第２族の元素を含有する化合物」は、ＩＩＡ及びＩＩＢ族の元素への言及とする。
　　「図」
　　（４）（ａ）化学的部分または面および非化学的部分または面の両方を有する操作，処理，製品または物品の場合に，一般規則として，化学的部分または面はＣセクションに包含される。
　　（ｂ）これらのうちのある場合には，化学的部分または面には非化学的部分または面を伴い，純粋に機械的部分または面を伴うことさえある，というのは非化学的面は操作または処理にとって本質的であるかまたはそれらの重要な要素を構成するからである；実際，全体のさまざまな部分または面を分割しないのがより論理的と思える。これは応用化学や上記注（１）（ｃ），（ｄ）および（ｅ）の工業，操作および処理の場合に適用される。例えば，ガラス製造用特殊炉はＣ０３に包含されＦ２７には包含されない。
　　（ｃ）しかしながら，機械的面（または非化学的面）に非化学的な面が伴うという例外もある，例えば：
　　―サブクラスＡ６１Ｋにおけるある抽出プロセス；
　　―サブクラスＡ６１Ｌにおける空気の化学的精製；
　　―サブクラスＡ６２Ｄにおける化学的消火方法；
　　―クラスＢ０１における化学的プロセスおよび装置；
　　―サブクラスＢ２７Ｋにおける木材の含浸；
　　―サブクラスＧ０１Ｎにおける化学的分析または試験法；
　　―クラスＧ０３における写真材料またはプロセス，そして一般に，Ｄセクションにおける繊維の化学的処理および繊維素，紙等の製造
　　（ｄ）さらに他の場合，純粋化学的面はＣセクションに包含され，応用化学的面はＡ，Ｂ，Ｆセクションのような他のセクションに包含される，例．以下の物質または組成物の使用：
　　―サブクラスＡ０１Ｎに包含される植物または動物の処理；
　　―クラスＡ２３に包含される食物；
　　―クラスＦ４２に包含される弾薬または爆薬
　　（ｅ）化学的面および機械的面が非常に交錯して，簡単明確な分割ができない時，または化学的処理が自然なまたは論理的な延長として機械的プロセスを要する時は，化学的面に加えて，Ｃセクションは機械的面の一部のみ，例．クラスＣ０４に包含される人造石の後処理，を包含する。この後者の場合に，たとえその区別がむしろ任意であってもその位置を明確にするよう注または参照を通常設けている。
C01 化学
　　 無機化学（セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理Ｃ０４Ｂ３５／００；発酵によるかまたは酵素を使用した元素または二酸化炭素以外の無機化合物の製造Ｃ１２Ｐ３／００；混合物，例．鉱石，からの金属化合物，すなわち単体金属を取得するための冶金的方法における中間体化合物の取得Ｃ２１Ｂ，Ｃ２２Ｂ；電気分解または電気泳動による非金属元素または無機化合物の製造Ｃ２５Ｂ）
　　＜注＞（１）サブクラスＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇおよびこれらのサブクラスの各々においては，相反する指示のない限り，化合物は最後の適切な箇所に分類する。例えば，過マンガン酸カリウムは，サブクラスＣ０１Ｇに過マンガン酸塩としてのみ分類する［３］
　　（２）化合物または組成物の殺生物，有害生物忌避，有害生物誘引または植物生長調節活性は，さらにサブクラスＡ０１Ｐに分類する。［８］
　　（３）下記のために酵素または微生物を用いる工程はさらにサブクラスＣ１２Ｓに分類する：［５］
　　（ｉ）既存の化合物または組成物の遊離，分離または精製
　　（ｉｉ）繊維製品の処理または材料の固体表面の洗浄
C01B 非金属元素；その化合物
　　＜注＞（１）このサブクラスでは，グループの範囲を正確に定義するため科学文献および特許文献でしばしば使われる商品名が使用されている。［６］
　　（２）Ｃセクションのタイトルに続く化学元素のグループの定義に注意すること［３］
　　（３）サブクラスＣ０１ＢからＣ０１Ｇに適用するラストプレイス優先ルールを規定するクラスＣ０１に続くクラス注（１）に注意すること。［８］
　　（４）化合物の治療活性は，サブクラスＡ６１Ｐにさらに分類する。［７］
　　＜索引＞水素；水素同位元素；水；水素化物　３／００；４／００；５／００；６／００
　　合成ガス　３／００
　　ハロゲン，その化合物　７／００，９／００，１１／００
　　酸素，酸化物一般；過化合物　１３／００；１５／００
　　いおう，その化合物　１７／００
　　窒素，その化合物　２１／００
　　りん，その化合物　２５／００
　　炭素，その化合物　３１／００
　　けい素，その化合物　３３／００
　　セレンまたはテルル；ほう素　１９／００；３５／００
　　希ガス　２３／００
　　分子ふるい特性を有するが塩基交換持性を有しない化合物　３７／００
　　分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物　３９／００

　　 水素；水素化物；水；炭化水素からの合成ガス

C01B 3/00 水素；水素を含有する混合ガス；水素を含有する混合物からのそれの分離（物理的方法によるガスの分離Ｂ０１Ｄ）；水素の精製（固体炭素質物質からの水性ガスまたは合成ガスの製造Ｃ１０Ｊ；一酸化炭素含有可燃性ガスの精製または化学組成の変性Ｃ１０Ｋ）［３］
C01B 3/00, A 水素貯蔵材料の使用
C01B 3/00, B ・材料に特徴のあるもの
C01B 3/00, Z その他のもの
C01B 3/02 ・水素または水素含有混合ガスの製造［３］
C01B 3/02, A 熱化学的反応サイクルによるもの
C01B 3/02, B ・水の熱化学的分解
C01B 3/02, D ・・ハロゲン化水素の分解による水素生成工程を含むもの
C01B 3/02, F ・・水素を含む無機化合物の還元による水素生成工程を含むもの
C01B 3/02, H ・・電気分解による水素生成工程を含むもの
C01B 3/02, Z その他のもの
C01B 3/04 ・・無機化合物，例．アンモニア，の分解によるもの［３］
C01B 3/04, R 水の分解によるもの
C01B 3/04, A ・光分解によるもの
C01B 3/04, B アンモニアの分解によるもの
C01B 3/04, C ハロゲン化水素の分解によるもの
C01B 3/04, Z その他のもの
C01B 3/06 ・・エレクトロポジティブに結合した水素を含有する無機化合物，例．水，酸，塩基，アンモニア，と無機還元剤との反応によるもの（水電解によるものＣ２５Ｂ１／０４）［３］
C01B 3/08 ・・・金属によるもの［３］
C01B 3/08, A アルカリ金属によるもの
C01B 3/08, B アルカリ土類金属によるもの
C01B 3/08, Z その他のもの
C01B 3/10 ・・・・金属と水蒸気との反応によるもの［３］
C01B 3/12 ・・・一酸化炭素と水蒸気との反応によるもの［３］
C01B 3/14 ・・・・熱および蒸気の運用［３］
C01B 3/16 ・・・・触媒を使用するもの［３］
C01B 3/18 ・・・・移動固体粒子を使用するもの［３］
C01B 3/20 ・・・金属水酸化物と一酸化炭素との反応によるもの［３］
C01B 3/22 ・・気体または液体有機化合物の分解によるもの（液体炭素質物質のコーキングＣ１０Ｂ５５／００）［３］
C01B 3/22, A アルコールの分解によるもの
C01B 3/22, Z その他のもの
C01B 3/24 ・・・炭化水素の［３］
C01B 3/26 ・・・・触媒を使用するもの［３］
C01B 3/28 ・・・・移動固体粒子を使用するもの［３］
C01B 3/30 ・・・・・流動床技術を用いるもの［３］
C01B 3/32 ・・ガス化剤，例．水，二酸化炭素，空気，と気体または液体有機化合物との反応によるもの［３］
C01B 3/32, A ガス化剤とアルコールとの反応によるもの
C01B 3/32, Z その他のもの
C01B 3/34 ・・・ガス化剤と炭化水素との反応によるもの［３］
C01B 3/36 ・・・・ガス化剤として酸素または酸素含有混合物を用いるもの［３］
C01B 3/38 ・・・・触媒を用いるもの［３］
C01B 3/40 ・・・・・触媒を特徴とするもの［３］
C01B 3/42 ・・・・・移動固体粒子を用いるもの［３］
C01B 3/44 ・・・・・・流動床技術を用いるもの［３］
C01B 3/46 ・・・・不連続的に予熱された非移動固体材料を用いるもの，例．ブラストとラン［３］
C01B 3/48 ・・・・一酸化炭素と水蒸気との反応にしたがうもの［３］
C01B 3/50 ・混合ガスからの水素または水素含有ガスの分離，例．精製（３／１４が優先）［３］
C01B 3/52 ・・液体との接触によるもの；使用液体の再生［３］
C01B 3/54 ・・・触媒反応を含むもの［３］
C01B 3/56 ・・固体との接触によるもの；使用固体の再生［３］
C01B 3/56, A 水素貯蔵材料を用いるもの
C01B 3/56, Z その他のもの
C01B 3/58 ・・・触媒反応を含むもの［３］

C01B 4/00 水素同位元素；同位元素交換により製造されるその無機化合物，例．ＮＨ↓３＋Ｄ↓２→ＮＨ↓２Ｄ＋ＨＤ（同位元素の分離Ｂ０１Ｄ５９／００；他の水素同位元素化合物の製造のための化学反応についてはクラスＣ０１中の水素化合物の該当グループ参照）［２］
C01B 4/00, C 同位体交換反応を含むもの
C01B 4/00, D ・触媒を特徴とするもの
C01B 4/00, Z その他のもの

C01B 5/00 水
C01B 5/00, A 水素と酸素の反応による水の生成
C01B 5/00, D ・触媒の組成・処理・再生
C01B 5/00, Z その他のもの
C01B 5/02 ・重水；水素同位元素またはその化合物の化学反応による製造，例．４ＮＤ↓３＋７Ｏ↓２→４ＮＯ↓２＋６Ｄ↓２Ｏ，２Ｄ↓２＋Ｏ↓２→２Ｄ↓２Ｏ
C01B 5/02, B 化学反応による重水の製造
C01B 5/02, D 同位体交換による重水の製造
C01B 5/02, E ・同位体交換反応触媒を特徴とするもの
C01B 5/02, Z その他のもの

C01B 6/00 金属の水素化物；モノボランまたはジボラン；その付加錯化合物（ほう素の高級水素化物，ほう素の置換水素化物３５／００）［２］
C01B 6/00, A 水素貯蔵に関するもの
C01B 6/00, Z その他のもの
C01B 6/02 ・遷移元素の水素化物；その付加錯化合物
C01B 6/04 ・アルカリ金属，アルカリ土類金属，ベリリウムまたはマグネシウムの水素化物；それらの付加錯化合物
C01B 6/06 ・アルミニウム，ガリウム，インジウム，タリウム，ゲルマニウム，錫，鉛，ひ素，アンチモン，ビスマスまたはポロニウムの水素化物；モノボラン；ジボラン；それらの付加錯化合物
C01B 6/10 ・・モノボラン；ジボラン；それらの付加錯化合物［２］
C01B 6/11 ・・・ほう素またはほう素と酸素を含有する無機化合物からの製造［２］
C01B 6/13 ・・・モノボランまたはジボランの付加錯化合物，例．ホスフイン，アルシンまたはヒドラジンとの［２］
C01B 6/15 ・・・・金属ほう水素化物；その付加錯化合物［２］
C01B 6/17 ・・・・・ほう素またはほう素と酸素とを含有する無機化合物からの製造［２］
C01B 6/19 ・・・・・他のほう素化合物からの製造［２］
C01B 6/21 ・・・・・・アルカリ金属，アルカリ土類金属，マグネシウムまたはベリリウムのほう水素化物の製造；それらの付加錯化合物，例．ＬｉＢＨ↓４・２Ｎ↓２Ｈ↓４，ＮａＢ↓２Ｈ↓７［２］
C01B 6/23 ・・・・・・他の金属ほう水素化物の製造，例．ほう水素化アルミニウム；その付加錯化合物，例．Ｌｉ〔Ａ１（ＢＨ↓４）↓３Ｈ〕［２］
C01B 6/24 ・少なくとも２種の金属を含む水素化物，例．Ｌｉ（ＡｌＨ↓４）；その付加錯化合物（６／１３〜６／２３が優先）［２］
C01B 6/26 ・・最高イオン価を有する金属またはその酸化物またはそのオキソ酸の塩からの製造
C01B 6/34 ・精製；安定化

　　 ハロゲン；その化合物

C01B 7/00 ハロゲン；ハロゲン化水素酸（ハロゲンのオキソ酸１１／００）
C01B 7/00, A ハロゲン化水素
C01B 7/00, Z その他のもの
C01B 7/01 ・塩素；塩化水素［２］
C01B 7/01, A 塩素
C01B 7/01, C ・水化〔和〕物
C01B 7/01, D ・分離
C01B 7/01, B 塩化水素
C01B 7/01, E ・塩素からの調製
C01B 7/01, F ・・塩素と水素からのもの
C01B 7/01, G ・有機塩素化合物からの調製
C01B 7/01, H ・分離
C01B 7/01, J ・・塩化水素を抽出することによるもの
C01B 7/01, K ・・塩化水素ガスを得るもの
C01B 7/01, L ・・塩酸及び金属塩化物を含有する廃液からの回収〔金属質材料の酸洗い廃液の再生Ｃ２３Ｇ１／３６〕
C01B 7/01, Z その他のもの
C01B 7/03 ・・塩化物からの製造［２，３］
C01B 7/03, A 塩素
C01B 7/03, B 塩化水素
C01B 7/03, C ・加水分解によるもの
C01B 7/03, Z その他のもの
C01B 7/04 ・・・塩化水素からの塩素の製造［３］
C01B 7/04, A Ｏ↓２での酸化によるもの
C01B 7/04, Z その他のもの
C01B 7/05 ・・・塩化アンモニウムからの製造［２，３］
C01B 7/05, A 塩素
C01B 7/05, Z その他のもの
C01B 7/07 ・・精製［２，３］
C01B 7/07, A 塩素
C01B 7/07, B 塩化水素
C01B 7/07, Z その他のもの
C01B 7/075 ・・・液体塩素の［２，３］
C01B 7/09 ・臭素；臭化水素［２］
C01B 7/09, A 臭素
C01B 7/09, C ・分離；精製
C01B 7/09, B 臭化水素
C01B 7/09, Z その他のもの
C01B 7/13 ・よう素；よう化水素［２］
C01B 7/14 ・・よう素［２］
C01B 7/14, A ＨＩからの調製
C01B 7/14, B 電気分解プロセスを含むプロセス；電気分解生成物を用いるプロセス〔よう素の電解製造Ｃ２５Ｂ１／２４〕
C01B 7/14, C 分離；精製
C01B 7/14, Z その他のもの
C01B 7/16 ・・・海草からの製造［２］
C01B 7/19 ・ふっ素；ふっ化水素［２］
C01B 7/19, A ふつ化水素
C01B 7/19, B ・蛍石からの調製
C01B 7/19, C ・分離；精製
C01B 7/19, D ・・ふつ化水素を抽出することによるもの
C01B 7/19, Z その他のもの
C01B 7/20 ・・ふっ素［２］
C01B 7/24 ・ハロゲン間化合物

C01B 9/00 ハロゲン化物製造の一般的方法（個々のハロゲン化物は，ハロゲンと結合している元素にしたがってＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇの該当するグループ参照，無機化合物の電解製造Ｃ２５Ｂ）
C01B 9/02 ・塩化物
C01B 9/04 ・臭化物
C01B 9/06 ・よう化物
C01B 9/08 ・ふっ化物

C01B 11/00 ハロゲンの酸化物またはオキシ酸；その塩
C01B 11/02 ・塩素の酸化物
C01B 11/02, A 二酸化塩素
C01B 11/02, B ・塩素酸塩からの調製
C01B 11/02, C ・・還元剤としてＣｌ↑−を用いるもの
C01B 11/02, D ・・還元剤としてＳＯ↓２を用いるもの
C01B 11/02, E ・・触媒を用いるもの
C01B 11/02, F ・亜塩素酸塩からの調製
C01B 11/02, G ・分離；精製
C01B 11/02, Z その他のもの
C01B 11/04 ・次亜塩素酸
C01B 11/06 ・・次亜塩素酸塩，例．塩素化石灰
C01B 11/06, A アルカリ金属次亜塩素酸塩
C01B 11/06, B 次亜塩素酸カルシウム
C01B 11/06, C ・調製
C01B 11/06, D ・・晒粉の
C01B 11/06, E ・晒液
C01B 11/06, F 次亜塩素酸マグネシウム
C01B 11/06, Z その他のもの
C01B 11/08 ・亜塩素酸
C01B 11/10 ・・亜塩素酸塩
C01B 11/12 ・塩素酸
C01B 11/14 ・・塩素酸塩
C01B 11/16 ・過塩素酸
C01B 11/18 ・・過塩素酸塩
C01B 11/20 ・臭素の酸素化合物
C01B 11/22 ・よう素の酸素化合物
C01B 11/24 ・ふっ素の酸素化合物

　　 酸素；酸化物または水酸化物一般；過化合物

C01B 13/00 酸素；オゾン；酸化物または水酸化物一般
C01B 13/02 ・酸素の製造（液化によるものＦ２５Ｊ）
C01B 13/02, A 吸着によるもの
C01B 13/02, B 化学反応によるもの
C01B 13/02, Z その他のもの
C01B 13/08 ・・金属酸化物，例．酸化バリウム，酸化マンガン，の助けにより空気から製造するもの
C01B 13/10 ・オゾンの製造
C01B 13/10, A 吸脱着式のもの
C01B 13/10, B 原料空気の除湿に特徴を有するもの
C01B 13/10, C 酸素リサイクル方式
C01B 13/10, D オゾンの利用に特徴を有するもの
C01B 13/10, Z その他のもの
C01B 13/11 ・・放電によるもの［２］
C01B 13/11, A 放電装置に特徴を有するもの
C01B 13/11, B ・放電管
C01B 13/11, C ・・円筒型
C01B 13/11, D ・・・単管式
C01B 13/11, E ・・・多管式
C01B 13/11, F ・・平板型
C01B 13/11, G ・電極のみに特徴を有するもの
C01B 13/11, H 電気回路に特徴を有するもの
C01B 13/11, J 材質に特徴を有するもの
C01B 13/11, K オゾン発生量の制御；プロセス制御
C01B 13/11, L 供給原料に特徴を有するもの〔←原料の除湿〕
C01B 13/11, M 冷却
C01B 13/11, Z その他のもの
C01B 13/14 ・酸化物または水酸化物の一般的製造方法（特に個々の酸化物または水酸化物は酸素または水酸基と結合する元素にしたがってＣ０１Ｂ〜Ｃ０１ＧまたはＣ２５Ｂの該当するグループを参照）
C01B 13/14, A 表面処理・改質
C01B 13/14, B 造粒
C01B 13/14, Z その他のもの〔←真空蒸着，スパツタリングによる薄膜の製造〕
C01B 13/16 ・・精製［３］
C01B 13/18 ・・化合物の，例．塩または水酸化物の，熱分解［３］
C01B 13/20 ・・ガス状態にある元素の酸化によるもの；ガス状態にある化合物の酸化または加水分解によるもの［３］
C01B 13/22 ・・・ハロゲン化物またはオキシハロゲン化物の［３］
C01B 13/24 ・・・・燃焼熱ガスの存在における［３］
C01B 13/26 ・・・・流動床の存在における［３］
C01B 13/28 ・・・・プラズマまたは放電を用いるもの［３］
C01B 13/30 ・・・・酸化物を含む懸濁物の除去と冷却［３］
C01B 13/32 ・・液体または固体の状態にある元素または化合物の酸化または加水分解によるもの［３］
C01B 13/34 ・・霧化または噴霧された溶液の酸化または加水分解によるもの［３］
C01B 13/36 ・・溶液中の沈でん反応によるもの［３］

C01B 15/00 過酸化物；過酸化水素化物；ペルオキシ酸またはその塩；超酸化物；オゾニド
C01B 15/01 ・過酸化水素［３］
C01B 15/013 ・・分離；精製；濃縮［３］
C01B 15/017 ・・・無水過酸化水素；過酸化水素を含む無水溶液またはガス状混合物［３］
C01B 15/022 ・・有機化合物からの製造［２］
C01B 15/023 ・・・アルキル―アントラキノン法によるもの［３］
C01B 15/023, A 還元工程
C01B 15/023, G 酸化・抽出工程
C01B 15/023, T 劣化作動液の再生工程
C01B 15/023, Z その他のもの〔←溶媒の組成〕
C01B 15/024 ・・・炭化水素からのもの［３］
C01B 15/026 ・・・アルコールからのもの［３］
C01B 15/027 ・・水からの製造［３］
C01B 15/029 ・・水素および酸素からの製造［３］
C01B 15/03 ・・無機過酸化化合物からの，例．ペルオキシ硫酸塩からの，製造［３］
C01B 15/032 ・・・金属の過酸化物からの製造［３］
C01B 15/037 ・・添加剤による安定化［３］
C01B 15/037, A 有機化合物を含む添加剤によるもの
C01B 15/037, C ・含いおう有機化合物を含む添加剤によるもの〔窒素も含むもの→Ｅ，りんも含むもの→Ｇ〕
C01B 15/037, E ・含窒素有機化合物を含む添加剤によるもの〔りんも含むもの→Ｇ〕
C01B 15/037, G ・含りん有機化合物を含む添加剤によるもの
C01B 15/037, Z その他のもの
C01B 15/04 ・金属過酸化物またはその過酸化水素化物；超酸化物；オゾニド［３］
C01B 15/043 ・・アルカリ金属，アルカリ土類金属のまたはマグネシウムの［２，３］
C01B 15/047 ・・重金属の［２，３］
C01B 15/055 ・過酸化水素化物（１５／０４が優先）；ペルオルキシ酸またはその塩［３］
C01B 15/06 ・・いおうを含むもの［３］
C01B 15/08 ・・・ペルオキシ硫酸塩［３］
C01B 15/10 ・・炭素を含むもの［３］
C01B 15/10, A 製造
C01B 15/10, B ・液相より晶出させるもの
C01B 15/10, G ・・液相中に有機化合物を存在させるもの
C01B 15/10, M 処理
C01B 15/10, Q ・有機化合物を含む添加剤による安定化〔製造工程中の安定剤の添加→Ａ〜Ｇ〕
C01B 15/10, Z その他のもの
C01B 15/12 ・・ほう素を含むもの［３］
C01B 15/14 ・・けい素を含むもの［３］
C01B 15/16 ・・りんを含むもの［３］

　　 ＜見出し終了＞

C01B 17/00 いおう；その化合物
C01B 17/00, C 粒，小片，その他成型品の製造〔コロイド状いおうまたは粉状いおう→１７／１０〕
C01B 17/00, D ・液状いおうと小滴に分割し，固化することによるもの
C01B 17/00, Z その他のもの
C01B 17/02 ・いおうの製造；精製
C01B 17/027 ・・元素状いおうを含む原料，例．ルックスマス，からのいおうの回収；精製［３］
C01B 17/027, A 気化によるもの
C01B 17/027, E ・物質を添加するもの
C01B 17/027, M 溶融によるもの
C01B 17/027, R ・物質を添加するもの〔水，水蒸気，不活性ガスは除く〕
C01B 17/027, Z その他のもの
C01B 17/033 ・・・液体抽出剤を用いるもの［３］
C01B 17/04 ・・ガス状硫化物を含むガス状いおう化合物からのもの
C01B 17/04, A ＳＯｘを含むガスからのもの〔Ｎ含有化合物も含むガスからのもの，→Ｘ〕
C01B 17/04, C ・ＳＯｘと気体，液体還元剤との反応を含むもの〔気体還元剤がＨ↓２Ｓ→Ｍ〜Ｖ；クラウス法テールガスの処理→Ｖ；湿式法１７／０５〕
C01B 17/04, E ・ＳＯｘと固体還元剤との反応を含むもの
C01B 17/04, F ・・固体還元剤；その前後処理；その供給，排出〔廃ガスの収，脱着工程と結合したもの→Ｋ，Ｌ〕
C01B 17/04, H ・・反応後のガスの処理〔廃ガスの収，脱着工程と結合したもの→Ｋ，Ｌ〕
C01B 17/04, W ・・・クラウス工程による処理〔←そのための還元工程の操作〕
C01B 17/04, K ・・廃ガスの収，脱着工程と結合したもの〔収着済収着剤よりＳＯｘを放出せずいおうを回収するもの→Ｅ〕
C01B 17/04, L ・・・廃ガスの収，脱着工程と還元工程とで炭素質物質が流用されるもの
C01B 17/04, M Ｈ↓２Ｓを含むガスからのもの〔Ｎ含有化合物も含むガスからのもの→Ｘ〕
C01B 17/04, N ・Ｈ↓２ＳとＳＯｘまたはＯ↓２との反応を含むもの〔Ｈ↓２ＳがＳＯｘ還元により製造されたもの→Ａ〜Ｌ〕
C01B 17/04, Q ・・無触媒燃焼反応工程
C01B 17/04, R ・・触媒反応工程
C01B 17/04, T ・・・いおうの露点以下で反応させるもの〔←ＣＢＡ法〕〔いおうの露点は，４４４．６℃〕
C01B 17/04, V ・・反応後のガスの処理〔←ＳＣＯＴ法；ＣＢＡ法→Ｔ〕
C01B 17/04, X Ｎ含有化合物を含むガス状いおう化合物からのもの
C01B 17/04, Z その他のもの〔←Ｈ↓２Ｓ＋Ｈ↓２Ｏ↓２→Ｓ＋２Ｈ↓２Ｏ〕
C01B 17/05 ・・・湿式法によるもの［３］
C01B 17/05, A Ｈ↓２Ｓを含むガスとＳＯｘまたはＯ↓２を含むガスからのもの〔吸収溶液組成は最後の適切な箇所に分類する〕
C01B 17/05, B ・アルカリ金属，アルカリ土類金属，アンモニウム含有液中でのもの
C01B 17/05, E ・重金属含有液中でのもの
C01B 17/05, G ・有機化合物含有液中でのもの
C01B 17/05, J ・・金属キレート化合物含有液中でのもの
C01B 17/05, L ・・芳香族ニトロ化合物含有液中でのもの
C01B 17/05, N ・・キノン類含有液中でのもの
C01B 17/05, Z その他のもの
C01B 17/06 ・・非ガス状硫化物またはそのような硫化物を含む原料，例．鉱石，からのもの
C01B 17/06, A 湿式法によるもの
C01B 17/06, B ・ＳＯｘ及びまたは，Ｏ↓２を含むガスとからのもの
C01B 17/06, Z その他のもの
C01B 17/10 ・・粉状いおう，例．昇華いおう，いおう華
C01B 17/12 ・・不溶性いおう（μ−いおう）
C01B 17/16 ・硫化水素
C01B 17/16, A 乾式法による製造〔Ｈ↓２Ｓ吸収体のＨ↓２Ｓを放つての再生→Ｎ〕
C01B 17/16, B ・ガス状いおう化合物からのもの
C01B 17/16, D ・・ＳＯｘを含むガスからのもの
C01B 17/16, F 湿式法による製造；融液中における製造
C01B 17/16, H ・水性媒体中におけるもの〔←いおう分含有水溶液を噴霧するもの；Ｈ↓２Ｓ吸収液のＨ↓２Ｓを放つての再生→Ｐ〕
C01B 17/16, M 分離；精製
C01B 17/16, N ・ガスからの硫化水素の収着および分離，再生
C01B 17/16, P ・・湿式法によるもの
C01B 17/16, Z その他のもの
C01B 17/18 ・・水素多硫化物
C01B 17/20 ・硫化物または多硫化物の一般的製造方法（硫化または多硫化アンモニウムＣ０１Ｃ；アルカリ金属，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムおよびバリウム以外の金属硫化物または多硫化物はその金属にしたがいＣ０１ＦまたはＣ０１Ｇの該当するグループ参照）
C01B 17/22 ・アルカリ金属硫化物または多硫化物
C01B 17/24 ・・還元による製造
C01B 17/26 ・・・炭素によるもの
C01B 17/28 ・・・還元性ガスによるもの
C01B 17/30 ・・ナトリウムまたはカリウムアマルガムといおうまたは硫化物からの製造
C01B 17/32 ・・ナトリウムまたはカリウムの水硫化物
C01B 17/34 ・・ナトリウムまたはカリウムの多硫化物
C01B 17/36 ・・精製
C01B 17/38 ・・脱水
C01B 17/40 ・・成形品，例．粒，の製造
C01B 17/42 ・マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムの硫化物または多硫化物
C01B 17/43 ・・酸化物または水酸化物といおうまたは硫化水素とからのもの
C01B 17/44 ・・硫酸塩の還元によるもの
C01B 17/45 ・いおうとハロゲンとを含有し，酸素を伴うまたは伴わない化合物
C01B 17/45, A ハロゲン化いおう
C01B 17/45, G ・ふつ素を含むもの
C01B 17/45, Z その他のもの
C01B 17/46 ・いおう，ハロゲン，水素および酸素を含有する化合物
C01B 17/48 ・二酸化いおう；亜硫酸
C01B 17/50 ・・二酸化いおうの製造
C01B 17/50, A 非ガス状いおう化合物からのもの〔←Ｈ↓２ＳＯ↓４からのもの〕
C01B 17/50, C ・アンモニウムを含む非ガス状いおう化合物からのもの〔←イミド硫酸からのもの；ＳＯｘ脱硫液のＳＯ↓２を放つての再生→１７／６０Ｂ〕
C01B 17/50, E ・金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの〔硫化鉱の焙焼によるもの→１７／５２；ＳＯｘ脱硫液のＳＯ↓２を放つての再生→１７／６０Ａ〜Ｐ〕
C01B 17/50, G ・・重金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの
C01B 17/50, M ガス状いおう化合物からのもの
C01B 17/50, N ・ＳＯ↓３からのもの〔Ｓ＋ＳＯ↓３→Ｚ〕
C01B 17/50, Z その他のもの
C01B 17/52 ・・・硫化物のばい焼によるもの（Ｃ２２Ｂ１／００が優先）
C01B 17/52, A 流動焙焼法によるもの〔←渦動床〕
C01B 17/52, Z その他のもの
C01B 17/54 ・・・元素状いおうの燃焼によるもの
C01B 17/54, A いおうを溶融させるもの
C01B 17/54, Z その他のもの
C01B 17/56 ・・・分離；精製
C01B 17/56, A 洗浄による不純物の除去〔ＳＯｘ含有焙焼ガスの水洗，酸洗による除塵，冷却または脱水〕
C01B 17/56, E ・添加物を含む洗浄液によるもの
C01B 17/56, Z その他のもの
C01B 17/58 ・・・アシッドタールまたは同等物から二酸化いおうの回収
C01B 17/60 ・・・ガスから二酸化いおうの分離
C01B 17/60, A 湿式法によるもの
C01B 17/60, B ・アルカリ金属，アルカリ土類金属またはアンモニウム含有液によるもの
C01B 17/60, G ・・酸性物質〔例．重亜硫酸塩〕の添加によりＳＯ↓２を放出するもの
C01B 17/60, J ・・いおう化合物の分離または分解によりＳＯ↓２を放出するもの
C01B 17/60, M ・重金属含有液によるもの
C01B 17/60, P ・有機化合物含有液によるもの
C01B 17/60, Z その他のもの
C01B 17/62 ・亜硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の亜硫酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）
C01B 17/64 ・チオ硫酸塩；亜二チオン酸塩；多チオン酸塩
C01B 17/64, B ガス状酸化剤〔除ＳＯｘ〕を用いる製造
C01B 17/64, Z その他のもの
C01B 17/66 ・・亜二チオン酸塩
C01B 17/66, B 蟻曹法による製造〔ＨＣＯＯＮａ＋ＮａＨＳＯ↓３＋ＳＯ↓２→Ｎａ↓２Ｓ↓２Ｏ↓４＋ＣＯ↓２＋Ｈ↓２Ｏ〕
C01B 17/66, E ・亜ニチオン酸塩結晶洗浄液または結晶分離母液の処理
C01B 17/66, M 処理
C01B 17/66, Z その他のもの
C01B 17/69 ・三酸化いおう；硫酸［３］
C01B 17/69, M 添加剤による処理〔←増粘；←固体化〕
C01B 17/69, Z その他のもの〔ＳＯ↓３の水性媒体への吸収による硫酸の製造→１７／７４Ｇ〕
C01B 17/70 ・・γ型三酸化いおうの安定化
C01B 17/74 ・・製造［３］
C01B 17/74, A 三酸化いおうの製造〔触媒によるもの→１７／７６〜１７／８０〕
C01B 17/74, D 液相中での硫酸の製造〔←液相中での，ＳＯ↓３↑２↑−の不均化（Ｓ＋ＳＯ↓４↑２↑−）〕
C01B 17/74, E ・酸化によるもの〔液相接触法→１７／７７５Ａ〕
C01B 17/74, F ・・ハロゲン，ハロゲン化合物を用いるもの
C01B 17/74, G ・三酸化いおうの水性媒体への吸収によるもの〔多段式ＳＯ↓３転化の中間吸収→１７／７６５Ａ〕
C01B 17/74, M ・・他のガス処理工程，例．二酸化いおうまたは空気の乾燥工程，とで水性媒体が流用されるもの
C01B 17/74, Z その他のもの
C01B 17/76 ・・・接触法による
C01B 17/76, A 他のいおう，いおう化合物処理工程，例．二酸化いおうの製造，精製，乾燥または三酸化いおうの吸収工程，と結合したもの〔多段式，ＳＯ↓３転化の中間吸収との結合→１７／７６５Ａ〕
C01B 17/76, Z その他のもの
C01B 17/765 ・・・・多段式ＳＯ↓３転化［３］
C01B 17/765, A 三酸化いおうの中間分離工程と結合したもの
C01B 17/765, Z その他のもの
C01B 17/77 ・・・・流動床法［３］
C01B 17/775 ・・・・液相接触法または湿式触媒法［３］
C01B 17/775, A 液相接触法〔使用触媒を特徴とするもの→１７／７８，７９〕
C01B 17/775, E ・炭素質触媒によるもの
C01B 17/775, Z その他のもの
C01B 17/78 ・・・・使用触媒を特徴とするもの
C01B 17/79 ・・・・・バナジウムを含むもの［３］
C01B 17/80 ・・・・装置
C01B 17/80, A 触媒転化器
C01B 17/80, Z その他のもの
C01B 17/82 ・・・酸化窒素法を用いる硫酸の
C01B 17/84 ・・・・鉛室法
C01B 17/86 ・・・・塔式法
C01B 17/88 ・・硫酸の濃縮
C01B 17/88, A 加熱表面に硫酸を接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→Ｓ〕
C01B 17/88, B ・硫酸の薄層を接触させるもの
C01B 17/88, E ・循環させるもの〔薄層を接触させるもの→Ｂ〕
C01B 17/88, H 加熱ガスと硫酸を直接接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→Ｓ〕
C01B 17/88, S 二以上の蒸発操作を結合したもの，例．多重効用蒸発缶
C01B 17/88, Z その他のもの
C01B 17/90 ・・分離；精製
C01B 17/90, A 温度，圧力または濃度の調整；撹拌；蒸留；脱気によるもの〔Ｈ↓２Ｏ，ＳＯ↓３，不活性ガスを除くのガスの吹き込み→Ｋ〜Ｒ〕
C01B 17/90, C ・液相より不純物を析出させるもの〔←液相として析出〕
C01B 17/90, E 電解；透析；浸透；逆浸透によるもの
C01B 17/90, K Ｈ↓２Ｏ，ＳＯ↓３，Ｈ↓２ＳＯ↓４，不活性ガスを除く物質の添加によるもの
C01B 17/90, L ・沈澱剤によるもの〔酸化による沈澱生成→Ｒ；吸着剤による沈澱生成→Ｐ〕
C01B 17/90, P ・吸着剤によるもの
C01B 17/90, Q ・・イオン交換樹脂またはキレート樹脂によるもの
C01B 17/90, R ・酸化剤によるもの〔不活性ガスとしての空気の使用→Ａ〕
C01B 17/90, S ・液体抽出剤によるもの
C01B 17/90, Z その他のもの
C01B 17/92 ・・・アシッドタールまたは同等物からの回収
C01B 17/94 ・・・ニトロ化用酸からの回収
C01B 17/96 ・硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の硫酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）
C01B 17/98 ・いおうと酸素を含有する他の化合物（過硫酸１５／０６；過硫酸塩１５／０８）

C01B 19/00 セレン；テルル；それらの化合物（りん化合物２５／１４）
C01B 19/00, A 酸素を含むもの
C01B 19/00, C ・セレンと酸素を含むもの
C01B 19/00, E ・テルルと酸素を含むもの
C01B 19/00, F ・・重金属をさらに含むもの
C01B 19/00, G いおうを含むもの
C01B 19/00, K ・テルルといおうを含むもの
C01B 19/00, M ハロゲンを含むもの
C01B 19/00, Z その他のもの
C01B 19/02 ・元素状セレンまたはテルル［３］
C01B 19/02, B 元素状セレンの製造
C01B 19/02, E ・液相中での還元によるもの
C01B 19/02, G 元素状セレンの処理
C01B 19/02, J ・基体からセレン薄膜を分離するもの
C01B 19/02, Z その他のもの
C01B 19/04 ・二元化合物［３］
C01B 19/04, A 金属のセレン化物；金属のテルル化物〔←金属の一部を他の金属に置換したもの；←Ｓｅの一部をＴｅに置換したもの〕
C01B 19/04, W ・Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇの〔セレン化物→Ｃ；テルル化物→Ｇ〕
C01B 19/04, B ・金属のセレン化物
C01B 19/04, C ・・Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇの
C01B 19/04, G ・金属のテルル化物
C01B 19/04, H ・・Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇの
C01B 19/04, M セレンとテルルとからなるもの〔金属も含むものＡ〕
C01B 19/04, Z その他のもの

C01B 21/00 窒素；その化合物
C01B 21/02 ・窒素の製造（アンモニアの分解による　Ｃ０１Ｂ３／０４）
C01B 21/02, A 窒素と水素との化合物からのもの〔水素混合ガスの製造→３／０４；廃ガス中の窒素酸化物のアンモニアによる還元によるもの→Ｂ０１Ｄ５３／３４，３６〕
C01B 21/02, Z その他のもの〔廃ガス中の窒素化合物からのもの→Ｂ０１Ｄ５３／３４，３６〕
C01B 21/04 ・窒素の精製または分離（液化によるものＦ２５Ｊ）
C01B 21/04, B 吸着によるもの
C01B 21/04, D ・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から酸素を吸着し除去するもの
C01B 21/04, G ・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から窒素を吸着し回収するもの
C01B 21/04, K ・・窒素吸着剤
C01B 21/04, M 拡散によるもの
C01B 21/04, N ・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から酸素を拡散し除去するもの
C01B 21/04, Q 磁気によるもの
C01B 21/04, R 不純物を反応させ除去するもの〔吸着→Ｂ〜Ｋ〕
C01B 21/04, S ・水素または炭素を含む物質と反応させるもの〔液相中→Ｗ〕
C01B 21/04, T ・・水素と反応させるもの
C01B 21/04, V ・金属と反応させるもの〔←メルト金属中〕
C01B 21/04, W ・液相中で反応させるもの〔メルト金属中→Ｖ〕
C01B 21/04, Z その他のもの〔空気からの不活性ガスの製造方法→Ｂ０１Ｊ１９／１４，同製造装置→Ｂ０１Ｊ７／００〕
C01B 21/06 ・窒素と金属，けい素またはほう素とからなる二元化合物（アジド２１／０８）
C01B 21/06, A 窒素と特定金属との二元化合物〔Ｂ，Ｄ，Ｆ，２１／０６４，２１／０６８，２１／０７２または２１／０７６にまたがる製造方法→Ｍ〜Ｚ〕
C01B 21/06, B ・窒素とアルカリ金属との二元化合物
C01B 21/06, D ・窒素と鉄族との二元化合物
C01B 21/06, F ・窒素とアクチニドとの二元化合物
C01B 21/06, M 窒素と金属，けい素またはほう素とからなる二元化合物の一般的製造方法
C01B 21/06, N ・金属，けい素またはほう素元素からのもの
C01B 21/06, R ・金属，けい素またはほう素と酸素との結合を含む化合物からのもの
C01B 21/06, Z その他のもの
C01B 21/064 ・・ほう素との化合物［３］
C01B 21/064, B 製造
C01B 21/064, D ・ほう素元素からのもの
C01B 21/064, G ・ほう素と酸素との結合を含む化合物からのもの
C01B 21/064, H ・・反応系に含窒素有機化合物を添加するもの
C01B 21/064, J ・ほう素の水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物またはほう素と窒素との結合を含む化合物，例．ボラゾール，ボラジン，からのもの
C01B 21/064, M 処理〔超高圧を用いる相転移→Ｂ０１Ｊ３／０６〕
C01B 21/064, Z その他のもの
C01B 21/068 ・・けい素との化合物［３］
C01B 21/068, C 製造
C01B 21/068, D ・けい素元素からのもの
C01B 21/068, E ・・反応系に金属成分を添加するもの〔運動状態で反応させるもの→Ｆ〕
C01B 21/068, F ・・運動状態，例．移動状態，で反応させるもの
C01B 21/068, G ・けい素と酸素との結合を含む化合物からのもの
C01B 21/068, W ・・けい素と酸素との結合を含む化合物〔例．アルコキシド〕と炭素源物質とを混合し窒化するもの〔運動状態で反応させるもの→Ｋ〕
C01B 21/068, H ・・・シリカ粉と炭素質粉とを混合し窒化するもの
C01B 21/068, J ・・・・反応系に金属成分を添加するもの
C01B 21/068, K ・・運動状態，例．移動状態，で反応させるもの
C01B 21/068, M ・けい素の水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物または該化合物の窒化生成物，シリコンイミド，シリコンジイミドからのもの〔けい素元素を経るもの→Ｄ；けい素と酸素との結合を含む化合物を経るもの→Ｇ；ポリシラザンを経るもの→Ｑ〕
C01B 21/068, N ・・電気もしくは波動エネルギーの直接適用または粒子線放射を用いるもの〔膜状物の製造→Ｙ〕
C01B 21/068, Y ・・膜状物の製造
C01B 21/068, P ・・窒化生成物またはシリコンイミド，シリコンジイミドからのもの
C01B 21/068, Q ・ポリシラザンからのもの
C01B 21/068, R 処理〔Ｐが優先〕
C01B 21/068, S ・エツチング
C01B 21/068, T ・精製；分離
C01B 21/068, U ・添加剤による表面の改質
C01B 21/068, Z その他のもの
C01B 21/072 ・・アルミニウムとの化合物［３］
C01B 21/072, A 製造
C01B 21/072, B ・金属アルミニウムからのもの
C01B 21/072, F ・・運動状態〔ガス状も含む〕で反応させるもの
C01B 21/072, G ・アルミニウムと酸素との結合を含む化合物〔←アルコキシド〕，または反応時該化合物となるアルミニウム化合物，例．硝酸アルミニウム，からのもの
C01B 21/072, J ・・反応系に金属〔除，アルミニウム〕またはけい素成分を添加するもの
C01B 21/072, M ・アルミニウムの水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物または該化合物の窒化生成物からのもの
C01B 21/072, R 処理
C01B 21/072, Z その他のもの
C01B 21/076 ・・チタンまたはジルコニウムとの化合物［３］
C01B 21/076, B 金属チタンまたは金属ジルコニウムからのもの
C01B 21/076, G チタンまたはジルコニウムと酸素の結合を含む化合物〔←アルコキシド〕からのもの
C01B 21/076, Z その他のもの
C01B 21/08 ・アジ化水素；アジド；ハロゲン化アジド
C01B 21/082 ・窒素と非金属とを含む化合物（２１／０６，２１／０８が優先）［３］
C01B 21/082, C １またはその以上のけい素原子を含むもの〔２１／０８３〜０９６に優先する〕〔←無機シラザン，窒化けい素鉄〕
C01B 21/082, D ・１またはそれ以上の酸素原子をさらに含むもの〔←酸窒化けい素〕
C01B 21/082, E ・・１またはそれ以上のアルミニウム原子をさらに含むもの
C01B 21/082, F ・・・けい素元素からの製造
C01B 21/082, G ・・・けい素と酸素との結合を含む化合物からの製造
C01B 21/082, J ・・・けい素と窒素との結合を含む化合物からの製造
C01B 21/082, K １またはそれ以上の炭素原子を含むもの〔２１／０８３〜０９６に優先する〕
C01B 21/082, L ・１またはそれ以上のけい素原子をさらに含むもの
C01B 21/082, Z その他のもの〔酸窒化金属は金属に従い分類する〕
C01B 21/083 ・・１またはそれ以上のハロゲン原子を含むもの［３］
C01B 21/084 ・・・１またはそれ以上の酸素原子をさらに含むもの，例．ハロゲン化ニトロシル［３］
C01B 21/086 ・・１またはそれ以上のいおう原子を含むもの［３］
C01B 21/087 ・・１またはそれ以上の水素原子を含むもの［３］
C01B 21/088 ・・・１またはそれ以上のハロゲン原子をさらに含むもの［３］
C01B 21/09 ・・・・ハロゲノアミン，例．クロラミン［３］
C01B 21/092 ・・・１またはそれ以上の金属原子をさらに含むもの［３］
C01B 21/093 ・・・１またはそれ以上のいおう原子をさらに含むもの［３］
C01B 21/093, A 窒素酸化物からの製造
C01B 21/093, Z その他のもの
C01B 21/094 ・・・・酸基を含むニトロシル［３］
C01B 21/096 ・・・・アミド硫酸；その塩［３］
C01B 21/096, A 窒素酸化物からの製造
C01B 21/096, Z その他のもの
C01B 21/097 ・・りん原子を含むもの［３］
C01B 21/098 ・・・窒化二ハロゲン化りん；その重合体［３］
C01B 21/098, M 窒化二ハロゲン化リンの重合体〔オリゴマー→Ｚ〕
C01B 21/098, Z その他のもの
C01B 21/12 ・・カルバミン酸；その塩
C01B 21/14 ・・ヒドロキシルアミン；その塩
C01B 21/14, B 窒素と酸素を含む無機化合物の接触的還元による製造
C01B 21/14, E 窒素を含む有機化合物からの製造
C01B 21/14, Z その他のもの
C01B 21/16 ・・ヒドラジン；その塩
C01B 21/16, B ヒドラジン・カルボニル化合物，例．ヒドラゾン〔ＲＲ′Ｃ＝ＮＮＨ↓２〕，イソヒドラゾンまたはアジン〔ＲＲ′Ｃ＝ＮＮ＝ＣＲＲ′〕，を経るもの
C01B 21/16, G 電気または波動エネルギーの直接適用または粒子線放射によるもの
C01B 21/16, Z その他のもの
C01B 21/20 ・窒素酸化物；窒素のオキシ酸；その塩
C01B 21/22 ・・亜酸化窒素（Ｎ↓２Ｏ）
C01B 21/24 ・・酸化窒素（ＮＯ）
C01B 21/24, A 他の窒素酸化物からの製造
C01B 21/24, E 窒素の酸素酸またはその塩からの製造
C01B 21/24, Z その他のもの
C01B 21/26 ・・・アンモニアの接触的酸化による製造
C01B 21/26, B 使用触媒を特徴とするもの
C01B 21/26, E ・貴金属を含む触媒
C01B 21/26, H 触媒の劣化または損失の防止；損失触媒の回収
C01B 21/26, Z その他のもの
C01B 21/28 ・・・・装置
C01B 21/30 ・・・窒素の酸化による製造
C01B 21/32 ・・・・装置
C01B 21/34 ・・三二酸化窒素（Ｎ↓２Ｏ↓３）
C01B 21/36 ・・二酸化窒素（ＮＯ↓２，Ｎ↓２Ｏ↓４）（２１／２６，２１／３０が優先）
C01B 21/36, A 他の窒素酸化物からの製造
C01B 21/36, C ・酸素酸化によるもの〔オゾンも用いるもの→Ｅ；電気もしくは波動エネルギーの直接適用または粒子線放射を用いるもの→Ｇ〕
C01B 21/36, D ・・触媒を用いるもの
C01B 21/36, E ・オゾン酸化によるもの
C01B 21/36, F ・ハロゲンまたはハロゲン化合物による酸化によるもの
C01B 21/36, G ・電気もしくは波動エネルギーの直接適用または粒子線放射を用いるもの
C01B 21/36, Z その他のもの
C01B 21/38 ・・硝酸
C01B 21/40 ・・・窒素酸化物の吸収による製造
C01B 21/40, B 吸収系にＨ↓２Ｏ，ＮＯｘ，ＨＮＯ↓３を除く物質を存在させるもの
C01B 21/40, E アンモニアの接触的酸化工程と結合するもの
C01B 21/40, Z その他のもの
C01B 21/42 ・・・硝酸塩からの製造
C01B 21/44 ・・・濃縮
C01B 21/46 ・・・精製；分離
C01B 21/46, A 温度，圧力または濃度の調整；撹拌；蒸留；脱気によるもの〔Ｈ↓２Ｏ，ＮＯｘ，ＨＮＯ↓３または不活性ガス以外の物質の添加によるもの→Ｓ，Ｚ〕
C01B 21/46, E 電解；透析；電気透析；逆浸透によるもの
C01B 21/46, S 液体抽出剤によるもの
C01B 21/46, Z その他のもの
C01B 21/48 ・・硝酸塩の一般的製造方法（特に個々の硝酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）
C01B 21/50 ・・亜硝酸；その塩
C01B 21/50, A 亜硝酸アンモニウム
C01B 21/50, B ・窒素酸化物の吸収による製造
C01B 21/50, E アルカリ金属亜硝酸塩
C01B 21/50, F ・窒素酸化物の吸収による製造
C01B 21/50, J マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムの亜硝酸塩
C01B 21/50, K ・窒素酸化物の吸収による製造
C01B 21/50, Z その他のもの

C01B 23/00 希ガス；その化合物（液化Ｆ２５Ｊ）
C01B 23/00, A ヘリウム；ネオン
C01B 23/00, C ・吸着による分離または精製
C01B 23/00, E ・拡散による分離または精製
C01B 23/00, F ・不純物を反応させ除去する分離または精製
C01B 23/00, G アルゴン
C01B 23/00, H ・吸着による分離または精製
C01B 23/00, J ・・前処理または後処理と結合したもの
C01B 23/00, K ・拡散による分離または精製
C01B 23/00, L ・不純物を反応させ除去する分離または精製
C01B 23/00, M クリプトン；キセノン
C01B 23/00, P ・吸着による分離または精製
C01B 23/00, Q ・・前処理または後処理と結合したもの
C01B 23/00, S ラドン
C01B 23/00, Z その他のもの

C01B 25/00 りん；その化合物（２１／００，２３／００が優先；過りん酸塩１５／１６）［３］
C01B 25/00, A 添加剤による赤りんの改質，例．安定化
C01B 25/00, Z その他のもの
C01B 25/01 ・りんまたはりん化合物を得るためのりん酸塩鉱石または他のりん酸塩原料の処理［２］
C01B 25/02 ・りんの製造
C01B 25/02, A りん化物からの製造
C01B 25/02, C りんと酸素との結合を含む化合物，例．りん鉱，からの製造
C01B 25/02, M ある態種から他態種への転化によるもの，例．黄りんからの赤りん製造
C01B 25/02, Z その他のもの
C01B 25/023 ・・赤りんの［２］
C01B 25/027 ・・黄りんの［２］
C01B 25/04 ・りんの精製
C01B 25/043 ・・赤りんの［２］
C01B 25/047 ・・黄りんの［２］
C01B 25/06 ・りん化水素
C01B 25/08 ・その他のりん化物
C01B 25/08, A ほう素，アルミニウム，ガリウム，インジウムまたはタリウムのりん化物
C01B 25/08, E りん元素からの製造
C01B 25/08, F ・ガス状りん元素からのもの
C01B 25/08, G りんと酸素との結合を含む化合物からのもの
C01B 25/08, Z その他のもの
C01B 25/10 ・りんのハロゲン化物またはオキシハロゲン化物［２］
C01B 25/12 ・りんの酸化物
C01B 25/14 ・りんのいおう，セレンまたはテルル化合物
C01B 25/16 ・りんのオキシ酸；その塩（ペルオキシ酸またはその塩１５／００）
C01B 25/163 ・・亜りん酸；その塩［２］
C01B 25/165 ・・次亜りん酸；その塩［２］
C01B 25/168 ・・ピロ亜りん酸；その塩［２］
C01B 25/18 ・・りん酸
C01B 25/20 ・・・元素状りんまたは無水りん酸からの製造
C01B 25/22 ・・・りん酸塩含有原料を酸と反応させることによる製造，例．湿式法
C01B 25/22, A りん酸を含む酸によるもの〔硫酸をも含むもの→２５／２２２〕
C01B 25/22, D 硝酸を含む酸によるもの〔←硫酸をも含むもの〕
C01B 25/22, Z その他のもの
C01B 25/222 ・・・・硫酸，主として硫酸より成る酸の混合物またはその場で硫酸を生成させる混合化合物，例．二酸化いおう，水および酸素の混合物，によるもの［３］
C01B 25/223 ・・・・・硫酸カルシウムのただ一つの形だけが生成されるもの［３］
C01B 25/225 ・・・・・・二水化物法［３］
C01B 25/226 ・・・・・・半水化物法［３］
C01B 25/228 ・・・・・硫酸カルシウムの一形態が生成しついで他の形態に転化するもの［３］
C01B 25/229 ・・・・・・半水化物―二水化物法［３］
C01B 25/231 ・・・・・・二水化物―半水化物法［３］
C01B 25/232 ・・・・・りん酸塩含有原料を濃硫酸と反応させひきつづき得られたものを浸出することによる製造，例．クリンカー法［３］
C01B 25/234 ・・・精製；安定化；濃縮（製造を伴う精製２５／２２；液一液抽出を含む製造２５／４６）［３］
C01B 25/234, A 濃縮
C01B 25/234, C りん酸根の有機溶媒抽出工程を含むりん酸の精製〔Ｃ〜Ｋはラストプレースルールによらない；りん鉱石の有機溶媒抽出→２５／４６〕
C01B 25/234, E ・りん酸の前精製〔りん酸根を抽出するもの→Ｃ，Ｇ〕
C01B 25/234, F ・抽残〔ラフイネート〕の処理〔りん酸根を抽出するもの→Ｃ，Ｇ〕
C01B 25/234, G ・溶媒・りん酸・水抽出相に物質を添加又は接触させるもの〔溶媒の剥離のためのもの→Ｃ〕
C01B 25/234, K ・抽出精製されたりん酸の後処理
C01B 25/234, Z その他のもの
C01B 25/235 ・・・・浄化；溶解不純物の後沈（Ｐｏｓｔｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ）を防止するための安定化［３］
C01B 25/237 ・・・・不純物の選択的除去［３］
C01B 25/238 ・・・・・陽イオン不純物［３］
C01B 25/238, A 陽イオン不純物の有機溶媒抽出工程を含むりん酸の精製
C01B 25/238, Z その他のもの
C01B 25/24 ・・縮合りん酸
C01B 25/26 ・・りん酸塩（過りん酸塩１５／１６）
C01B 25/28 ・・・りん酸アンモニウム
C01B 25/28, C りん酸水溶液とアンモニアからの製造
C01B 25/28, D ・多段で中和するもの；他のりん酸アンモニウム中間体が生成するもの
C01B 25/28, F ・並流連続反応によるもの
C01B 25/28, M 処理
C01B 25/28, Z その他のもの
C01B 25/30 ・・・アルカリ金属りん酸塩
C01B 25/30, B りん酸水溶液とアルカリ金属化合物からの製造
C01B 25/30, D りん酸有機溶媒含有溶液とアルカリ金属化合物からの製造
C01B 25/30, M 処理
C01B 25/30, Z その他のもの
C01B 25/32 ・・・マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムのりん酸塩
C01B 25/32, B カルシウムのりん酸塩
C01B 25/32, C ・第一りん酸カルシウム〔Ｃａ（Ｈ↓２ＰＯ↓４）↓２〕
C01B 25/32, G ・第二りん酸カルシウム〔ＣａＨＰＯ↓４〕
C01B 25/32, K ・・無水塩
C01B 25/32, M ・第三りん酸カルシウム〔Ｃａ↓３（ＰＯ↓４）↓２〕
C01B 25/32, N ・・乾式法による製造
C01B 25/32, P ・水酸基を含むもの
C01B 25/32, Q ・・製造
C01B 25/32, R ・・・他のりん酸カルシウムからのもの
C01B 25/32, V ・・・有機物の存在下に製造するもの〔Ｒに該当すればＲにも付与する〕
C01B 25/32, W ・・処理
C01B 25/32, Y ストロンチウムまたはバリウムのりん酸塩
C01B 25/32, Z その他のもの
C01B 25/34 ・・・・りん酸マグネシウム
C01B 25/36 ・・・りん酸アルミニウム
C01B 25/36, D 有機物の存在下に製造するもの〔Ｑ優先〕
C01B 25/36, Q 分子篩特性を有するもの
C01B 25/36, Z その他のもの
C01B 25/37 ・・・重金属のりん酸塩［２］
C01B 25/37, H チタン，ジルコニウムまたはハフニウムのりん酸塩
C01B 25/37, J ・チタンの
C01B 25/37, K ・ジルコニウムの
C01B 25/37, L ・・有機物の存在下に製造するもの
C01B 25/37, M バナジウム，ニオブまたはタンタルのりん酸塩
C01B 25/37, Z その他のもの
C01B 25/38 ・・・縮合りん酸塩
C01B 25/39 ・・・・アルカリ金属の［３］
C01B 25/40 ・・・・ポリりん酸塩［２］
C01B 25/40, A アンモニウムの
C01B 25/40, Z その他のもの
C01B 25/41 ・・・・・アルカリ金属の［３］
C01B 25/42 ・・・・ピロりん酸塩［２］
C01B 25/44 ・・・・メタりん酸塩［２］
C01B 25/445 ・・・・・アルカリ金属の［３］
C01B 25/45 ・・・複数の金属，または金属とアンモニウムを含むもの［３］
C01B 25/45, A 軽金属または軽金属とアンモニウムのみを含むもの
C01B 25/45, D ・ベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムを含むもの
C01B 25/45, G ・アルミニウムを含むもの
C01B 25/45, H チタン，ジルコニウム，またはハフニウムを含むもの
C01B 25/45, M バナジウム，ニオブまたはタンタルを含むもの
C01B 25/45, T 重金属とアルミニウムを含むもの
C01B 25/45, U ・分子篩特性を有するもの
C01B 25/45, Z その他のもの
C01B 25/455 ・・・ハロゲンを含むもの［３］
C01B 25/46 ・・液−液抽出を含む製造（溶剤抽出一般Ｂ０１Ｄ１１／００）［２］

C01B 31/00 炭素；その化合物（２１／００；２３／００が優先；過炭酸塩１５／１０；カーボンブラックＣ０９Ｃ１／４８；ガスカーボンの製造Ｃ１０Ｂ）［３］
C01B 31/02 ・炭素の製造（超高圧，例．ダイヤモンド生成のための，を用いることによるものＢ０１Ｊ３／０６；結晶成長によるものＣ３０Ｂ）；精製
C01B 31/02,101 ・・炭素の製造
C01B 31/02,101A 成形体
C01B 31/02,101B 粉粒体
C01B 31/02,101F フラーレン類；ナノチューブ
C01B 31/02,101Z その他のもの
C01B 31/04 ・・黒鉛
C01B 31/04,101 ・・・黒鉛の製造
C01B 31/04,101A 成形体
C01B 31/04,101B 粉粒体
C01B 31/04,101Z その他のもの
C01B 31/04,102 ・・・熱分解黒鉛
C01B 31/06 ・・ダイヤモンド
C01B 31/06, A 製造
C01B 31/06, B 分離；回収
C01B 31/06, Z その他
C01B 31/08 ・活性炭
C01B 31/08, A 製造
C01B 31/08, Z その他のもの
C01B 31/10 ・・ガス状活性化剤の使用による製造
C01B 31/12 ・・非ガス状活性化剤の使用による製造
C01B 31/14 ・・粒状化（装置Ｂ０１Ｊ２／００）
C01B 31/16 ・炭素質物からイオン交換物質の製造
C01B 31/18 ・一酸化炭素（金属カルボニルＣ０１Ｇ）
C01B 31/18, A 製造
C01B 31/18, B 分離精製
C01B 31/18, Z その他
C01B 31/20 ・二酸化炭素
C01B 31/20, A 製造
C01B 31/20, B 分離精製
C01B 31/20, C 液化
C01B 31/20, Z その他のもの
C01B 31/22 ・・固体化
C01B 31/24 ・炭酸塩または重炭酸塩の一般的製造方法（過炭酸塩１５／１０；個々の炭酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ〜Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）
C01B 31/26 ・炭素およびいおうを含有する化合物，例．二硫化炭素，炭素オキシ硫化物；チオフォスゲン
C01B 31/26, A 二硫化炭素
C01B 31/26, Z その他のもの
C01B 31/28 ・フォスゲン
C01B 31/30 ・炭化物（合金Ｃ２２）
C01B 31/32 ・・炭化カルシウム
C01B 31/34 ・・炭化タングステンまたは炭化モリブデン
C01B 31/36 ・・炭化けい素または炭化ほう素
C01B 31/36,601 ・・・炭化けい素
C01B 31/36,601A 製造方法に特徴がある
C01B 31/36,601B ・Ｓｉをけい素源とするもの
C01B 31/36,601C ・・ＳｉとＣとの反応によるもの
C01B 31/36,601F ・Ｓｉ含有化合物をけい素源とするもの［Ｂが優先］
C01B 31/36,601G ・・Ｓｉ含有化合物とＣとの反応によるもの［Ｈが優先］
C01B 31/36,601H ・・ＳｉＯ又はＳｉＯ↓２をけい素源とするもの
C01B 31/36,601J ・・Ｓｉ含有有機物のみを熱分解とするもの
C01B 31/36,601S 処理又は複合物の製造
C01B 31/36,601Y 用途に特徴があるもの
C01B 31/36,601Z その他のもの
C01B 31/36,602 ・・・炭化ほう素

C01B 33/00 けい素；その化合物（２１／００，２３／００が優先；過けい酸塩１５／１４；炭化けい素３１／３６）［３］
C01B 33/02 ・けい素（単結晶または特定構造を有する均質多結晶材料の形成Ｃ３０Ｂ）［５］
C01B 33/02, D 珪素被膜
C01B 33/02, E 多結晶珪素
C01B 33/02, Z その他のもの
C01B 33/021 ・・製造（気相からの化学的被覆Ｃ２３Ｃ１６／００）［５］
C01B 33/023 ・・・シリカまたはシリカ含有材料の還元によるもの［５］
C01B 33/025 ・・・・炭素または固体炭素質材料によるもの，すなわち炭熱法［５］
C01B 33/027 ・・・シリカまたはシリカ含有材料以外の気体状または気化されたけい素化合物の分解または還元によるもの［５］
C01B 33/029 ・・・・モノシランの分解によるもの［５］
C01B 33/03 ・・・・けい素ハロゲン化物またはハロシランの分解，または水素のみを還元剤とするそれの還元によるもの［５］
C01B 33/031 ・・・・・四ヨウ化けい素の分解によるもの［５］
C01B 33/033 ・・・・金属または合金のみを還元剤とする，けい素ハロゲン化物またはハロシランの還元によるもの［５］
C01B 33/035 ・・・・気体状または気化されたけい素化合物の，けい素，炭素，または耐火金属，例．タンタルまたはタングステン，の加熱フイラメントの存在下における，もしくは形成されるけい素が析出する加熱けい素棒，すなわち得られるけい素の存在下における，例．シーメンス法，分解または還元によるもの［５］
C01B 33/037 ・・精製（ゾーンメルテングによるものＣ３０Ｂ１３／００）［５］
C01B 33/039 ・・・けい素の化合物への転換，選択的なその化合物の精製，及びけい素への再転換によるもの［５］
C01B 33/04 ・けい素の水素化物
C01B 33/06 ・金属けい化物（合金Ｃ２２）
C01B 33/08 ・ハロゲンを含む化合物
C01B 33/10 ・・けい素，ふっ素および他の元素を含有する化合物
C01B 33/107 ・・ハロゲン化シラン［３］
C01B 33/107, A ケイ素のフツ化物
C01B 33/107, B ケイ素のハロゲン化物の精製
C01B 33/107, Z その他のもの
C01B 33/113 ・酸化けい素；その水和物［３］
C01B 33/113, A 低級酸化物
C01B 33/113, Z その他のもの
C01B 33/12 ・・シリカ；その水和物，例．うろこ状けい酸［３］
C01B 33/12, A 他元素含有シリカ
C01B 33/12, B 結晶質けい酸
C01B 33/12, C 気相反応以外の方法による二酸化珪素薄膜の形成
C01B 33/12, D 二酸化珪素の薄膜の後処理
C01B 33/12, E 溶融シリカの製法
C01B 33/12, Z その他のもの
C01B 33/14 ・・・コロイド状シリカ，例．ディスパージョン，ゲル，ゾル［３］
C01B 33/141 ・・・・ヒドロゾルまたは水性ディスパージョンの製造［３］
C01B 33/142 ・・・・・けい酸塩の酸処理によるもの［３］
C01B 33/143 ・・・・・・けい酸塩の水溶液の［３］
C01B 33/145 ・・・・ヒドロオルガノゾル，オルガノゾルまたは有機媒体中のディスパージョンの製造［３］
C01B 33/146 ・・・・ゾルの後処理（ヒドロゾルからのヒドロオルガノゾル，オルガノゾルまたは有機媒体中のディスパージョンの製造３３／１４５）［３］
C01B 33/148 ・・・・・濃縮；乾燥；脱水；安定化；精製［３］
C01B 33/149 ・・・・・被覆［３］
C01B 33/151 ・・・・・あるゾルを別のゾルに漸進的に添加すること，すなわち「ヒール（ｈｅｅｌ）」を用いる粒子の「形成」，によるもの［３］
C01B 33/152 ・・・・ヒドロゲルの製造［３］
C01B 33/152, A ゾルのゲル化によるもの
C01B 33/152, B アルコキシドの分解によるもの
C01B 33/152, Z その他のもの
C01B 33/154 ・・・・・けい酸塩水溶液の酸処理によるもの［３］
C01B 33/155 ・・・・ヒドロオルガノゲルまたはオルガノゲルの製造［３］
C01B 33/157 ・・・・ゲルの後処理［３］
C01B 33/158 ・・・・・精製；乾燥；脱水［３］
C01B 33/159 ・・・・・被覆または疎水化［３］
C01B 33/16 ・・・シリカキセロゲルの製造［３］
C01B 33/18 ・・・ゾル状でもゲル状でもない微粉状のシリカの製造；その後処理（ゲルの脱水によるエアロゲルの調製３３／１５８；顔料性または充てん剤の性質を改良するための処理Ｃ０９Ｃ）［３］
C01B 33/18, A 珪弗化物の分解によるもの
C01B 33/18, B もみがらから珪酸の製造
C01B 33/18, C シリカの被覆・疎水化
C01B 33/18, D シリカの精製・乾燥・脱水
C01B 33/18, E その他の後処理
C01B 33/18, Z その他のもの
C01B 33/187 ・・・・けい酸塩の酸処理によるもの［３］
C01B 33/193 ・・・・・けい酸塩の水溶液の［３］
C01B 33/20 ・けい酸塩（過けい酸塩１５／１４）
C01B 33/22 ・・けい酸マグネシウム
C01B 33/24 ・・アルカリ土類金属けい酸塩
C01B 33/24,101 ・・・けい酸カルシウム
C01B 33/26 ・・アルミニウム含有けい酸塩［５］
C01B 33/32 ・・アルカリ金属けい酸塩（３３／２６が優先）［３］
C01B 33/36 ・・塩基交換特性を有するが分子ふるい特性を有しないもの（その再生Ｂ０１Ｊ４９／００）［６］
C01B 33/38 ・・・層をなした塩基交換けい酸塩，例．粘土，雲母，またはケニアイト型もしくはマガダイト型のアルカリ金属けい酸塩［６］
C01B 33/40 ・・・・粘土［６］
C01B 33/42 ・・・・雲母［６］
C01B 33/44 ・・・・アンモニウム，ホスホニウムまたはスルホニウム化合物のような有機化合物とのイオン交換により，または有機化合物の挿入により層をなした塩基交換けい酸塩から得られる生産物，例．有機粘土物質［６］
C01B 33/46 ・・・無定型けい酸塩，例．いわゆる“アモルファスゼオライト”（結晶性ゼオライト３９／００）［６］

C01B 35/00 ほう素；その化合物（モノボラン，ジボラン，金属ほう水素化物またはその付加錯化合物６／００；過ほう酸塩１５／１２；窒素との二元化合物２１／０６；りん化物２５／０８；炭化物３１／３６；ほう素を含む合金Ｃ２２）［２］
C01B 35/02 ・ほう素；ほう化物［２］
C01B 35/04 ・・金属のほう化物［２］
C01B 35/04, A 遷移金属
C01B 35/04, B ・チタン
C01B 35/04, C その他の金属
C01B 35/04, D 複数金属又は金属とアンモニウムとの組合せ
C01B 35/04, Z その他
C01B 35/06 ・ほう素とハロゲンとの化合物［２］
C01B 35/08 ・ほう素および窒素，りん，酸素，いおう，セレンまたはテルルを含む化合物［２］
C01B 35/10 ・・ほう素および酸素を含む化合物（３５／０６が優先）［２］
C01B 35/10, A ほう酸
C01B 35/10, Z その他のもの
C01B 35/12 ・・・ほう酸塩［２］
C01B 35/12, A アルカリ金属塩
C01B 35/12, B ２Ａ（Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｒａ）金属塩
C01B 35/12, C その他の金属塩
C01B 35/12, D 複数金属又は金属とアンモニウムとの組合せ
C01B 35/12, Z その他
C01B 35/14 ・・ほう素および窒素，りん，いおう，セレンまたはテルルを含む化合物［２］
C01B 35/16 ・ほう素の２原子間の直接結合を含む化合物，例．Ｃｌ↓２Ｂ―ＢＣｌ↓２［２］
C01B 35/18 ・３個以上のほう素原子を含む化合物，例．ＮａＢ↓３Ｈ↓８，ＭｇＢ↓１↓０Ｂｒ↓１↓０（ボラゾール３５／１４）［２］

　　 化学構造よりもむしろ物理的または化学的特性に主として特徴のある化合物［６］

C01B 37/00 分子ふるい特性を有するが塩基交換特性を有しない化合物［６］
C01B 37/02 ・結晶性シリカ多形体，例．シリカライト［６］
C01B 37/04 ・アルミノりん酸塩（ＡＰＯ化合物）［６］
C01B 37/06 ・他の元素，例．金属，ほう素，を含むアルミノりん酸塩［６］
C01B 37/08 ・・シリコアルミノりん酸塩（ＳＡＰＯ化合物）［６］

C01B 39/00 分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物，例．結晶性ゼオライト；その製造；後処理，例．イオン交換または脱アルミニウム（収着特性を変えるための処理，例．バインダーを用いる成形，Ｂ０１Ｊ２０／１０；触媒特性を変えるための処理，例．ゼオライトを触媒として使えるようにするための処理の組合せＢ０１Ｊ２９／０４；イオン交換特性を改良するための処理Ｂ０１Ｊ３９／１４；イオン交換特性の再生または再活性化Ｂ０１Ｊ４９／００：洗剤に用いられる安定した懸濁液の製造Ｃ１１Ｄ３／１２）［６］
　　＜注＞このグループにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる：［６］
　　−“ゼオライト”は以下のものを意味する：［６］
　　（ｉ）塩基交換特性と分子ふるい特性を有する結晶性アルミノけい酸塩で，四面体酸化物単位の三次元の微小孔の格子骨格構造を有するもの［６］
　　（ｉｉ）上記（ｉ）と同形の化合物であって，その骨格の中のアルミニウムあるいはけい素原子が，部分的または全部，他の元素の原子，例．ガリウム，ゲルマニウム，りんまたはほう素，と置換されるもの［６］
C01B 39/02 ・結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト；その同形置換化合物；その直接製造；もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から，または前もって形成された反応物質からの製造：その後処理［６］
C01B 39/04 ・・すくなくとも一つの有機鋳型指向剤，例．イオン性第４級アンモニウム化合物またはアミノ化化合物，を用いるもの［６］
C01B 39/06 ・・格子骨格のアルミニウムまたはけい素原子を他の元素で置換する手段に特徴がある同形置換ゼオライトの製造［６］
C01B 39/08 ・・・アルミニウム原子の全部置換［６］
C01B 39/10 ・・・置換原子がりん原子であるもの［６］
C01B 39/12 ・・・置換原子がほう素原子であるもの［６］
C01B 39/14 ・・Ａ型［６］
C01B 39/16 ・・・種子以外のアルミナまたはシリカ源を除くアルカリ金属アルミン酸塩およびアルカリ金属けい酸塩の水溶液からのもの［６］
C01B 39/18 ・・・粘土型のアルミニウムけい酸塩，またはアルミノけい酸塩を少なくとも一つ含有する反応混合物からのもの，例．カオリン，メタカオリン，その発熱変成体，またはアロフエン［６］
C01B 39/20 ・・フォージャサイト型，例．Ｘ型またはＹ型［６］
C01B 39/22 ・・・Ｘ型［６］
C01B 39/24 ・・・Ｙ型［６］
C01B 39/26 ・・モルデナイト型［６］
C01B 39/28 ・・フィリップサイトまたは重十字沸石（ハーモトーム）型，例．特許文献ＵＳ　Ａ　３，００８，８０３で例示されたようなＢ型［６］
C01B 39/30 ・・エリオナイトまたはオフレタイト型，例．ゼオライトＴ［６］
C01B 39/32 ・・Ｌ型［６］
C01B 39/34 ・・ＺＳＭ−４型またはΩ型［６］
C01B 39/36 ・・ペンタシル型，例．ＺＳＭ−５，ＺＳＭ−８またはＺＳＭ−１１型［６］
C01B 39/38 ・・・ＺＳＭ−５型［６］
C01B 39/40 ・・・・すくなくとも一つの有機鋳型指向剤を用いるもの［６］
C01B 39/42 ・・ＺＳＭ−１２型［６］
C01B 39/44 ・・フェリエライト型，例．ＺＳＭ−２１，ＺＳＭ−３５またはＺＳＭ−３８型［６］
C01B 39/46 ・・Ｘ線回折図形および組成の規定に特徴のある他の型［６］
C01B 39/48 ・・・すくなくとも一つの有機鋳型指向剤を用いるもの［６］
C01B 39/50 ・無機塩基または塩が格子骨格のチャネルを閉じるゼオライト，例．方ソーダ石（ソーダライト），カンクリナイト，ゆう方石（ノゼアン），藍方石（オウイナイト）［６］
C01B 39/52 ・・方ソーダ石（ソーダライト）［６］
C01B 39/54 ・りん酸塩，例．ＡＰＯまたはＳＡＰＯ化合物［６］
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